二次電子發(fā)射理論及應用

第1章 緒論
1.1 基本概念
1.2 應用背景
1.3 研究現(xiàn)狀
1.3.1 二次電子發(fā)射特性約研究
1.3.2 介質材料的帶電特性研究
1.3.3 二次電子動態(tài)發(fā)射
第2章 二次電子發(fā)射理論模型及測量
2.1 二次電子發(fā)射數(shù)值理論模型
2.1.1 Vaughan模型
2.1.2 Furman模型
2.1.3 Monte Carlo數(shù)值模型
2.1.4 半物理模型
2.2 二次電子發(fā)射的測量
2.2.1 金屬材料的二次電子發(fā)射測量
2.2.2 介質材料的二次電子發(fā)射測量
2.3 典型材料二次電子產額測量結果
2.3.1 常見金屬材料的二次電子發(fā)射產額及能譜測量數(shù)據(jù)
2.3.2 常見介質材料的二次電子發(fā)射產額測量數(shù)據(jù)
第3章 二次電子發(fā)射表面調控技術
3.1 表面微結構抑制二次電子發(fā)射
3.1.1 表面構型抑制二次電子的基本原理
3.1.2 樣品表面規(guī)則槽結構
3.1.3 收攏式表面陷阱結構
3.1.4 二維嵌套式陷阱結構抑制二次電子發(fā)射
3.1.5 抑制二次電子的表面構型技術工藝
3.2 表面鍍膜調控二次電子發(fā)射
3.2.1 表面鍍膜技術調控SEY的原理
3.2.2 表面鍍膜技術抑制SEY
3.2.3 表面鍍膜技術增強SEY
3.2.4 其他技術
3.2.5 表面鍍膜技術與表面構型技術的結合
第4章 介質材料的帶電及二次電子動態(tài)發(fā)射
4.1 電子照射介質材料帶電特性
4.1.1 電荷輸運理論及模型
4.1.2 充電動態(tài)模擬流程
4.1.3 電子輻照介質帶電分布特性
4.2 介質帶電下的二次電子發(fā)射動態(tài)特性
4.2.1 帶電平衡數(shù)值模型
4.2.2 樣品參數(shù)對平衡模式的影響
第5章 電子轟擊對介質材料的影響
5.1 電子輻照帶電效應下的微波介電特性
5.1.1 多能量電子束輻照
5.1.2 帶電效應影響介電常數(shù)
5.1.3 對DRA的影響
5.2 電子轟擊對材料表面的影響
5.2.1 放電所需的電子輻照量測試
5.2.2 表面放電電位數(shù)值模擬
5.2.3 電子轟擊下的表面釋氣
5.2.4 表面化學鍵與表面形貌