國家電網(wǎng)有限公司 著
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尤蓋希·辛格·楚罕 著
隨著集成電路工藝特征尺寸進入28nm以下節(jié)點,傳統(tǒng)的平面MOSFET結構已不再適用…
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高建華,劉永濤 著
作為西門子Process Simulate軟件的基礎應用書籍,《西門子數(shù)字化制造工藝過程…
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王主丁 著
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