等離子體蝕刻及其在大規(guī)模集成電路制造中的應(yīng)用（第2版）

第1章低溫等離子體蝕刻技術(shù)發(fā)展史
1.1絢麗多彩的等離子體
1.2低溫等離子體的應(yīng)用領(lǐng)域
1.3低溫等離子體蝕刻技術(shù)混沌之初
1.4低溫等離子體蝕刻技術(shù)世紀(jì)初的三演義
1.5三維邏輯和存儲器時代低溫等離子體蝕刻技術(shù)的變遷
1.6華人在低溫等離子體蝕刻機(jī)臺發(fā)展中的 貢獻(xiàn)
1.7未來低溫等離子體蝕刻技術(shù)展望
參考文獻(xiàn)
第2章低溫等離子體蝕刻簡介
2.1等離子體的基本概念
2.2低溫等離子體蝕刻基本概念
2.3等離子體蝕刻機(jī)臺簡介
2.3.1電容耦合等離子體機(jī)臺
2.3.2電感耦合等離子體機(jī)臺
2.3.3電子回旋共振等離子體機(jī)臺
2.3.4遠(yuǎn)距等離子體蝕刻機(jī)臺
2.3.5等離子體邊緣蝕刻機(jī)臺
2.4等離子體先進(jìn)蝕刻技術(shù)簡介
2.4.1等離子體脈沖蝕刻技術(shù)
2.4.2原子層蝕刻技術(shù)
2.4.3中性粒子束蝕刻技術(shù)
2.4.4帶狀束方向性蝕刻技術(shù)
2.4.5氣體團(tuán)簇離子束蝕刻技術(shù)
參考文獻(xiàn)
第3章等離子體蝕刻在邏輯集成電路制造中的應(yīng)用
3.1邏輯集成電路的發(fā)展
3.2淺溝槽隔離蝕刻
3.2.1淺溝槽隔離的背景和概況
3.2.2淺溝槽隔離蝕刻的發(fā)展
3.2.3膜層結(jié)構(gòu)對淺溝槽隔離蝕刻的影響
3.2.4淺溝槽隔離蝕刻參數(shù)影響
3.2.5淺溝槽隔離蝕刻的重要物理參數(shù)及對器件性能的影響
3.2.6鰭式場效應(yīng)晶體管中鰭(Fin)的自對準(zhǔn)雙圖形的蝕刻
…… 第4章 等離子體蝕刻在存儲器集成電路制造中的應(yīng)用 第5章 等離子體蝕刻工藝中的經(jīng)典缺陷介紹 第6章 特殊氣體及低溫工藝在等離子蝕刻中的應(yīng)用 第7章 等離子蝕刻對邏輯集成電路良率及可靠性的影響 第8章 等離子體蝕刻在新材料蝕刻中的展望 第9章 現(xiàn)金蝕刻過程控制及其在集成電路制造中的應(yīng)用 第10章 虛擬制造在集成電路發(fā)展中的應(yīng)用 參考文獻(xiàn)