激光熱敏光刻：原理與方法

第1章 光刻技術(shù)研究現(xiàn)狀

1.1引言

1.2光刻方法

1.2.1掩模曝光技術(shù)

1.2.2無掩模光刻

1.2.3光刻技術(shù)優(yōu)缺點

1.3光敏光刻膠材料

1.3.1有機光刻膠薄膜

1.3.2S/Se基硫系薄膜

1.4本章 小結(jié)

參考文獻

第2章 激光熱敏光刻原理

2.1引言

2.2光學(xué)光敏光刻

2.3激光熱敏光刻

2.3.1原子尺度的線邊緣粗糙度

2.3.2無衍射極限光刻

2.3.3跨尺度光刻

2.3.4寬波段光刻

2.3.5正性光刻膠與負性光刻膠的相互轉(zhuǎn)化

2.4硫系化合物快速相變機理

2.4.1傘滑躍模型

2.4.2多元環(huán)模型

2.5激光熱敏光刻與光學(xué)光敏光刻比較

2.6本章 小結(jié)

參考文獻





第3章 高速旋轉(zhuǎn)型激光熱敏光刻系統(tǒng)

3.1引言

3.2系統(tǒng)基本架構(gòu)

3.3伺服跟蹤模塊

3.3.1基于雙柱面鏡的像散法原理

3.3.2聚焦誤差信號理論分析

3.3.3計算與仿真結(jié)果

3.3.4伺服跟蹤模塊測試

3.3.5伺服跟蹤模塊實驗結(jié)果

3.4樣品運動誤差測試模塊

3.4.1基于單柱面鏡的像散法

3.4.2小孔尋焦法的理論分析

3.4.3樣品運動臺的平面度測試系統(tǒng)

3.4.4樣品臺的運動平面度測試

3.5極坐標系統(tǒng)圖形發(fā)生器

3.6任意圖形刻寫的實驗結(jié)果

3.7本章 小結(jié)

參考文獻

第4章 激光熱敏光刻中的熱擴散調(diào)控

4.1引言

4.2激光熱敏光刻中的熱擴散效應(yīng)

4.3改變熱敏光刻膠的熱物特性調(diào)控?zé)釘U散通道

4.3.1熱擴散系數(shù)

4.3.2薄膜厚度

4.4通過熱傳導(dǎo)層調(diào)控?zé)釘U散通道

4.4.1下Si層對熱斑的影響

4.4.2上Si層對熱斑的影響

4.4.3上Si層與下Si層共同調(diào)控?zé)岚?br />
4.5曝光時間的影響

4.5.1高速刻寫

4.5.2短脈沖曝光刻寫

4.5.3激光熱敏光刻方案的優(yōu)化

4.6本章 小結(jié)

參考文獻

第5章 硫化物熱敏光刻膠薄膜與激光熱敏光刻

5.1引言

5.2Te基硫化物熱敏光刻膠

5.2.1AgInSbTe熱敏光刻膠

5.2.2GeSbTe光刻膠

5.2.3TeOx光刻膠

5.3高速激光熱敏納米光刻

5.3.1光熱局域化分析

5.3.2基于高速旋轉(zhuǎn)縮短曝光時間

5.3.3激光熱敏納米光刻

5.4激光熱敏光刻的任意特征尺寸調(diào)整

5.4.1仿真和分析

5.4.2跨尺度圖形結(jié)構(gòu)制造

5.4.3復(fù)雜圖形結(jié)構(gòu)制造

5.5本章 小結(jié)

參考文獻

第6章 基于有機薄膜的激光熱敏光刻

6.1引言

6.2基于熱汽化與變形的熱敏光刻

6.2.1分子結(jié)構(gòu)分析

6.2.2熱學(xué)性質(zhì)

6.2.3光學(xué)性質(zhì)

6.2.4光熱局域化響應(yīng)的理論分析

6.2.5光刻的物理圖像

6.2.6光刻圖形結(jié)構(gòu)

6.3熱汽化誘導(dǎo)的一次性光刻

6.4基于熱交聯(lián)效應(yīng)的光刻

6.4.1聚焦光斑誘導(dǎo)局域曝光后烘技術(shù)

6.4.2不同曝光功率誘導(dǎo)的光敏光刻與熱敏光刻轉(zhuǎn)變

6.5本章 小結(jié)

參考文獻

第7章 透明薄膜的激光熱敏光刻

7.1引言

7.2透明薄膜的激光熱敏光刻原理

7.3透明薄膜的光熱性質(zhì)

7.4ZnSSiO2薄膜的選擇性濕刻機理

7.4.1鍵合模型

7.4.2包層模型

7.5光吸收層輔助的微納光刻

7.5.1AgInSbTe作為光吸收層

7.5.2Ge作為光吸收層

7.5.3無定形Si作為光吸收層

7.5.4AlNiGd金屬玻璃作為光吸收層

7.6AgOx作為光吸收層直接圖形化

7.7本章 小結(jié)

參考文獻

第8章 激光熱敏灰度光刻與彩色打印

8.1引言

8.2基于微納結(jié)構(gòu)的激光灰度光刻

8.2.1馬蘭戈尼效應(yīng)實現(xiàn)微納圖形化

8.2.2內(nèi)部汽化膨脹形成鼓包圖形

8.2.3利用激光誘導(dǎo)微納結(jié)構(gòu)進行灰度光刻

8.3基于結(jié)晶效應(yīng)的激光灰度光刻

8.3.1激光能量誘導(dǎo)的反射率變化

8.3.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的灰度光刻

8.3.3Ge2Sb2Te5薄膜灰度光刻的應(yīng)用

8.4基于TeOx結(jié)構(gòu)演化的灰度光刻

8.4.1結(jié)構(gòu)演化特性

8.4.2結(jié)構(gòu)演化誘導(dǎo)灰度圖形

8.5其他灰度光刻方法

8.5.1表面氧化

8.5.2晶粒細化

8.6激光熱敏彩色打印

8.6.1基于Sb2Te3薄膜的彩色打印

8.6.2基于Ge2Sb2Te5薄膜的彩色打印

8.7本章 小結(jié)

參考文獻

第9章 激光熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.1引言

9.2基于ICP/RIE的圖形轉(zhuǎn)移

9.2.1無機熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.2.2有機熱敏光刻膠的圖形轉(zhuǎn)移

9.3基于刻蝕技術(shù)的GaAs圖形轉(zhuǎn)移

9.4基于光存儲技術(shù)的圖形轉(zhuǎn)移

9.4.1電鍍

9.4.2直接模板壓印

9.4.3RIE轉(zhuǎn)移

參考文獻

索引