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石墨烯材料質(zhì)量技術(shù)基礎(chǔ):計(jì)量

石墨烯材料質(zhì)量技術(shù)基礎(chǔ):計(jì)量

定 價(jià):¥218.00

作 者: 任玲玲
出版社: 華東理工大學(xué)出版社
叢編項(xiàng):
標(biāo) 簽: 暫缺

ISBN: 9787562864141 出版時(shí)間: 2021-05-01 包裝: 精裝
開本: 16開 頁數(shù): 228 字?jǐn)?shù):  

內(nèi)容簡介

  本書共七章。前兩章主要介紹了計(jì)量與材料計(jì)量的基本概念,以及石墨烯材料計(jì)量、標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)劃設(shè)計(jì)及框架。后五章主要介紹了石墨烯材料質(zhì)量評(píng)價(jià)中關(guān)于真假判斷的部分計(jì)量技術(shù)。第3章介紹了石墨烯材料拉曼光譜計(jì)量技術(shù),第4章介紹了X 射線衍射法測(cè)量石墨烯材料晶體結(jié)構(gòu),第5章介紹了原子力顯微鏡法測(cè)量石墨烯材料厚度,第6章介紹了石墨烯材料電子顯微鏡計(jì)量技術(shù),第7章介紹了石墨烯粉體化學(xué)成分測(cè)量技術(shù)。附錄補(bǔ)充了X 射線衍射儀的溯源性研究、掠入射X 射線反射膜厚測(cè)量儀器校準(zhǔn)的內(nèi)容。

作者簡介

  任玲玲,畢業(yè)于北京化工大學(xué),現(xiàn)任中國計(jì)量科學(xué)研究院納米新材料計(jì)量研究所新材料計(jì)量實(shí)驗(yàn)室主任,APMP(亞太計(jì)量組織)-TCMM(材料計(jì)量技術(shù)委員會(huì))委員、VAMAS(先進(jìn)材料標(biāo)準(zhǔn)化凡爾賽公約)組織中國代表,ISO TC229委員,全國納米計(jì)數(shù)標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)納米檢測(cè)技術(shù)工作組秘書長。2003-2005年,中科院化學(xué)所分子納米結(jié)構(gòu)與納米技術(shù)院重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,師從白春禮院士、萬立駿院士做博士后;2005-2007年,韓國KIST(Korea Institute of Science & Technology)做訪問學(xué)者。

圖書目錄

1章 計(jì)量與材料計(jì)量001
1.1 計(jì)量概述003
1.2 計(jì)量與測(cè)量007
1.2.1 測(cè)量007
1.2.2 計(jì)量008
1.2.3 計(jì)量特點(diǎn)010
1.3 測(cè)量誤差與測(cè)量不確定度011
1.3.1 測(cè)量誤差011
1.3.2 測(cè)量不確定度012
1.4 標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)015
1.5 計(jì)量的作用017
1.5.1 計(jì)量對(duì)國民經(jīng)濟(jì)的作用017
1.5.2 計(jì)量在基礎(chǔ)研究中的作用019
1.6 材料計(jì)量概述019
1.6.1 材料計(jì)量研究內(nèi)容021
1.6.2 材料計(jì)量研究成果及社會(huì)服務(wù)022
1.6.3 材料計(jì)量國內(nèi)外現(xiàn)狀023
1.7 國際計(jì)量組織026
1.7.1 國際計(jì)量局(BIPM) 026
1.7.2 亞太計(jì)量規(guī)劃組織(APMP) 028
1.7.3 先進(jìn)材料與標(biāo)準(zhǔn)凡爾賽合作計(jì)劃(VAMAS) 029
1.8 計(jì)量比對(duì)030
1.9 總結(jié)與展望031
1.9.1 總結(jié)031
1.9.2 展望032
參考文獻(xiàn)035
第2章 國家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施及石墨烯材料計(jì)量037
2.1 我國古代質(zhì)量觀———度量衡039
2.2 現(xiàn)代質(zhì)量觀———國家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施041
2.3 計(jì)量在國家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施中的基礎(chǔ)地位043
2.4 納米技術(shù)對(duì)計(jì)量技術(shù)的需求046
2.5 石墨烯材料產(chǎn)業(yè)國家質(zhì)量基礎(chǔ)設(shè)施技術(shù)發(fā)展048
2.6 石墨烯材料關(guān)鍵特性參數(shù)調(diào)研057
參考文獻(xiàn)064
第3章 石墨烯材料拉曼光譜計(jì)量技術(shù)065
3.1 概述067
3.2 拉曼光譜儀溯源070
3.2.1 拉曼光譜測(cè)量原理071
3.2.2 拉曼頻移的溯源073
3.2.3 拉曼相對(duì)強(qiáng)度的溯源074
3.3 拉曼頻移和相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的研制076
3.3.1 拉曼頻移標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)077
3.3.2 拉曼相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)083
3.4 基于拉曼頻移和相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法086
3.4.1 基于拉曼頻移標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法086
3.4.2 基于拉曼相對(duì)強(qiáng)度標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)校準(zhǔn)拉曼光譜儀的方法089
3.5 石墨烯材料拉曼光譜測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)方法090
3.5.1 測(cè)量方法研究091
3.5.2 標(biāo)準(zhǔn)方法建立過程中的國內(nèi)比對(duì)093
3.6 小結(jié)096
參考文獻(xiàn)096
第4章 X 射線衍射法測(cè)量石墨烯材料晶體結(jié)構(gòu)099
4.1 概述101
4.2 設(shè)備溯源和校準(zhǔn)104
4.2.1 設(shè)備溯源105
4.2.2 設(shè)備校準(zhǔn)106
4.3 測(cè)量方法研究109
4.3.1 測(cè)量樣品準(zhǔn)備109
4.3.2 取樣原則109
4.3.3 測(cè)量條件110
4.3.4 圖譜分析及數(shù)據(jù)處理111
4.4 計(jì)量比對(duì)111
4.5 標(biāo)準(zhǔn)方法117
4.6 小結(jié)117
參考文獻(xiàn)118
第5章 原子力顯微鏡法測(cè)量石墨烯材料厚度119
5.1 概述121
5.2 原子力顯微鏡技術(shù)原理122
5.3 原子力顯微鏡設(shè)備校準(zhǔn)與溯源123
5.4 測(cè)量方法建立126
5.4.1 AFM 掃描模式的選擇126
5.4.2 AFM 測(cè)量用基底的影響126
5.4.3 AFM 測(cè)量參數(shù)的影響127
5.4.4 AFM 數(shù)據(jù)分析處理的方法128
5.4.5 不確定度評(píng)定131
5.5 計(jì)量比對(duì)132
5.5.1 比對(duì)樣品的選取132
5.5.2 國內(nèi)比對(duì)133
5.5.3 國際比對(duì)136
5.6 測(cè)量方法標(biāo)準(zhǔn)化137
5.7 小結(jié)138
參考文獻(xiàn)138
第6章 石墨烯材料電子顯微鏡計(jì)量技術(shù)141
6.1 掃描電鏡測(cè)量石墨烯材料片層尺寸和覆蓋度144
6.1.1 掃描電鏡溯源及校準(zhǔn)145
6.1.2 石墨烯片層尺寸測(cè)量方法154
6.1.3 大范圍金屬基底上石墨烯薄膜覆蓋度的測(cè)量方法159
6.2 透射電鏡測(cè)量石墨烯材料形貌、層數(shù)和層間距168
6.2.1 透射電鏡校準(zhǔn)溯源169
6.2.2 透射電鏡放大倍率校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)171
6.2.3 透射電鏡校準(zhǔn)方法174
6.2.4 石墨烯形貌、層數(shù)和層間距的透射電鏡測(cè)量方法179
6.3 小結(jié)185
參考文獻(xiàn)186
第7章 石墨烯粉體化學(xué)成分測(cè)量技術(shù)189
7.1 概述191
7.2 XPS儀器測(cè)量要求192
7.2.1 XPS儀器簡介192
7.2.2 XPS儀器檢定校準(zhǔn)193
7.2.3 XPS儀器檢定校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)195
7.2.4 XPS儀器檢測(cè)注意事項(xiàng)195
7.3 石墨烯粉體的C/O 測(cè)量技術(shù)研究196
7.3.1 測(cè)量樣品選取196
7.3.2 石墨烯粉體XPS測(cè)量方法開發(fā)197
7.3.3 石墨烯粉體C/O 測(cè)量實(shí)例199
7.4 ICP MS儀器測(cè)量要求203
7.5 石墨烯粉體中金屬雜質(zhì)測(cè)量技術(shù)研究204
7.5.1 測(cè)量樣品處理204
7.5.2 石墨烯粉體的ICP MS測(cè)量程序205
7.5.3 石墨烯粉體中金屬雜質(zhì)測(cè)量實(shí)例205
7.6 標(biāo)準(zhǔn)測(cè)量方法開發(fā)209
7.7 小結(jié)209
參考文獻(xiàn)210
附錄1 X 射線衍射儀的溯源性研究211
附錄2 掠入射X 射線反射膜厚測(cè)量儀器校準(zhǔn)221
索引226

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