現(xiàn)代工業(yè)制造過程質(zhì)量控制優(yōu)化設(shè)計(jì)

第1 章緒論1
1.1 過程與波動(dòng) 2
1.2 統(tǒng)計(jì)過程控制(SPC) 3
1.3 控制圖的性能度量 5
1.3.1 平均運(yùn)行長(zhǎng)度(ARL) 5
1.3.2 平均產(chǎn)品長(zhǎng)度(APL) 7

第2 章統(tǒng)計(jì)質(zhì)量控制理論概述9
2.1 波動(dòng)理論 10
2.2 統(tǒng)計(jì)質(zhì)量控制的用途和應(yīng)用原則 10
2.3 質(zhì)量數(shù)據(jù)的取得與整理 11
2.4 統(tǒng)計(jì)質(zhì)量控制的統(tǒng)計(jì)推斷 13
2.4.1 數(shù)據(jù)特征值 14
2.4.2 常用的概率分布 15
2.5 控制圖方法 17
2.5.1 控制圖的基本形式 17
2.5.2 控制圖的原理 18
2.5.3 控制圖的作用 20
2.5.4 控制圖的分類 21
2.5.5 控制圖的應(yīng)用程序與作法 23
2.5.6 控制圖的觀測(cè)與分析 33
2.6 過程監(jiān)控技術(shù)的研究現(xiàn)狀 36
2.6.1 正態(tài)過程監(jiān)控 36
2.6.2 非正態(tài)過程監(jiān)控 37
2.6.3 小波動(dòng)過程監(jiān)控 38
2.6.4 多元過程監(jiān)控 39
2.6.5 自相關(guān)過程監(jiān)控 42

第3 章休哈特常規(guī)控制圖的優(yōu)化設(shè)計(jì)方法45
3.1 休哈特控制圖的設(shè)計(jì)思想 45
3.2 基于APL的休哈特控制圖的設(shè)計(jì) 45
3.3 靈敏度分析 47
3.3.1 均值變化的靈敏度分析 47
3.3.2 方差變化的靈敏度分析 51
3.3.3 均值方差都改變的靈敏度分析 53
3.4 監(jiān)控效率比對(duì) 57
3.5 指數(shù)加權(quán)移動(dòng)平均(EWMA) 控制圖 59
3.6 EWMA圖的優(yōu)化設(shè)計(jì) 61
3.6.1 平均產(chǎn)品長(zhǎng)度的計(jì)算 62
3.6.2 最佳參數(shù)的選擇 64
3.6.3 設(shè)計(jì)效果比較 68
3.7 改進(jìn)的EWMA圖的使用 69

第4 章偏態(tài)過程下控制圖的改進(jìn)優(yōu)化設(shè)計(jì)71
4.1 賦權(quán)方差(WV) 方法 71
4.2 非對(duì)稱休哈特圖的優(yōu)化設(shè)計(jì) 73
4.2.1 控制方案的設(shè)計(jì) 73
4.2.2 靈敏度分析 76
4.2.3 偏態(tài)休哈特圖最優(yōu)設(shè)計(jì)與一般方法的比較 80
4.2.4 偏態(tài)情況最優(yōu)設(shè)計(jì)的使用 80
4.3 偏態(tài)過程的EWMA圖 81
4.3.1 偏態(tài)EWMA圖的構(gòu)造 82
4.3.2 平均運(yùn)行長(zhǎng)度的計(jì)算方法 82
4.3.3 偏態(tài)EWMA圖的設(shè)計(jì) 84
4.3.4 監(jiān)控效果比較 86

第5 章多個(gè)變量同時(shí)監(jiān)控的控制圖改進(jìn)設(shè)計(jì)88
5.1 HotellingT2 圖 88
5.2 小波動(dòng)控制圖 89
5.2.1 MCUSUM圖 89
5.2.2 MEWMA圖 90
5.3 改變報(bào)警規(guī)則的多變量控制圖 92
5.3.1 平均運(yùn)行長(zhǎng)度的計(jì)算 93
5.3.2 使用案例 96
5.4 效率分析與比較 97
5.5 基于虛擬元回歸的失控信號(hào)診斷 99
5.5.1 二元質(zhì)量控制的診斷方法 99
5.5.2 多元質(zhì)量控制的診斷 101
5.5.3 一個(gè)二元質(zhì)量控制的診斷算例 101
5.5.4 診斷方法比較 103

第6 章存在自相關(guān)特性的過程控制圖改進(jìn)設(shè)計(jì)106
6.1 時(shí)間序列擬合模型 106
6.1.1 AR模型 106
6.1.2 MA模型 107
6.1.3 ARMA模型 108
6.1.4 模型識(shí)別和參數(shù)估計(jì) 108
6.2 用殘差消除過程自相關(guān) 109
6.3 EWMA殘差控制圖 111
6.3.1 過程均值的EWMA殘差圖 111
6.3.2 過程方差的EWMA殘差圖 111
6.3.3 EWMA殘差控制圖的應(yīng)用 112
6.3.4 幾種殘差控制圖的比較 114

第7 章時(shí)變過程下的控制圖改進(jìn)116
7.1 時(shí)變離散過程下的質(zhì)量控制 116
7.2 基于離散BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的時(shí)變過程質(zhì)量控制 118
7.2.1 離散BP神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)改善法 118
7.2.2 離散時(shí)變過程質(zhì)量控制模型 120
7.2.3 質(zhì)量監(jiān)控模擬實(shí)驗(yàn) 121
7.3 時(shí)變連續(xù)過程的SPC/APC整合策略 127
7.3.1 MMSE調(diào)整后的監(jiān)控 128
7.3.2 PI調(diào)整后的監(jiān)控 129
7.3.3 監(jiān)控效率分析 131
7.3.4 算例 133
7.4 帶有延遲的時(shí)變連續(xù)過程的質(zhì)量控制 136
7.4.1 多重延遲自動(dòng)反饋控制的監(jiān)控模型 136
7.4.2 反饋調(diào)整后的統(tǒng)計(jì)過程監(jiān)控 137
7.4.3 算例分析 141

第8 章總結(jié)與展望144
8.1 研究總結(jié) 144
8.2 創(chuàng)新點(diǎn) 145
8.3 研究展望 146

參考文獻(xiàn)147