晶體生長(zhǎng)微觀(guān)機(jī)理及晶體生長(zhǎng)邊界層模型

目錄
序言一
序言二
前言
第1章 晶體生長(zhǎng)理論模型的歷史回顧 1
1.1 晶體生長(zhǎng)的幾個(gè)界面理論模型 1
1.1.1 光滑界面理論模型 1
1.1.2 非完整光滑界面理論模型 2
1.1.3 粗糙界面理論模型 3
1.1.4 多層界面模型（擴(kuò)展界面模型）4
1.2 SE理論模型與BFDH理論模型 5
1.2.1 SE理論模型 5
1.2.2 BFDH理論模型 6
1.3 周期鍵鏈理論模型 7
1.4 負(fù)離子配位多面體生長(zhǎng)基元模型 8
參考文獻(xiàn) 9
第2章 拉曼光譜的基本原理和應(yīng)用 11
2.1 拉曼散射的基本理論 11
2.1.1 拉曼散射現(xiàn)象和本質(zhì) 11
2.1.2 拉曼散射的電磁輻射理論 12
2.1.3 晶體的拉曼散射 14
2.2 拉曼光譜解析及應(yīng)用 18
2.2.1 晶格振動(dòng)模式與拉曼光譜 18
2.2.2 拉曼光譜中的峰位指認(rèn) 18
2.2.3 拉曼光譜的應(yīng)用 20
參考文獻(xiàn) 25
第3章 熔融法晶體生長(zhǎng)微觀(guān)機(jī)理的拉曼光譜研究 26
3.1 高溫共聚焦拉曼光譜儀 26
3.1.1 共焦顯微拉曼光譜技術(shù) 27
3.1.2 激發(fā)光源 28
3.1.3 累積時(shí)間分辨技術(shù) 28
3.1.4 增強(qiáng)型電荷耦合探測(cè)器件 29
3.2 微型晶體生長(zhǎng)爐 30
3.3 同成分晶體生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 32
3.3.1 Bi12SiO20晶體生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 32
3.3.2 Bi4Ge3O12晶體生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 34
3.3.3 KNbO3晶體生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 38
3.3.4 KTaxNb（1-x）O3晶體生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 43
3.3.5 α-BiB3O6晶體生長(zhǎng)邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 45
3.3.6 α-BaB2O4晶體熔體法生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 46
3.4 助溶劑晶體生長(zhǎng)邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜的研究 52
3.4.1 KGd（WO4）2晶體生長(zhǎng)邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 52
3.4.2 LiB3O5晶體自助溶生長(zhǎng)邊界層的高溫激光顯微拉曼光譜研究 57
3.4.3 LBO晶體MoO3助溶劑生長(zhǎng)機(jī)理的高溫激光顯微拉曼光譜研究 62
3.4.4 Li2O-B2O3-MoO3冷凝體的固體核磁共振光譜 65
3.4.5 Na2O助溶劑β-BaB2O4晶體生長(zhǎng)邊界層研究 72
參考文獻(xiàn) 73
第4章 同步輻射技術(shù)在晶體生長(zhǎng)微觀(guān)機(jī)制研究中的應(yīng)用 79
4.1 同步輻射X射線(xiàn)技術(shù)特點(diǎn) 79
4.2 同步輻射X射線(xiàn)在晶體生長(zhǎng)微觀(guān)機(jī)理研究中的應(yīng)用 81
4.2.1 同步輻射X表面射線(xiàn)衍射原位測(cè)量技術(shù) 81
4.2.2 用于同步輻射SXRD技術(shù)原位觀(guān)測(cè)的微型晶體生長(zhǎng)爐 81
4.3 CsB3O5晶體表面熔化膜結(jié)構(gòu)的SXRD技術(shù)的原位研究 82
4.3.1 CBO晶體簡(jiǎn)介 82
4.3.2 CBO晶體表面熔化膜同步輻射X射線(xiàn)掠入射實(shí)驗(yàn) 83
4.3.3 CBO晶體表面熔化膜同步輻射X射線(xiàn)的衍射光譜 84
4.3.4 CBO晶體（011）面表面熔化膜的衍射光譜的分析和結(jié)論 87
4.4 其他同步輻射X射線(xiàn)研究晶體生長(zhǎng)邊界層微觀(guān)結(jié)構(gòu)的技術(shù) 88
4.4.1 同步輻射X射線(xiàn)吸收精細(xì)結(jié)構(gòu)譜技術(shù)研究晶體生長(zhǎng)微觀(guān)結(jié)構(gòu)演化 89
4.4.2 NaBi（WO4）2晶體的同步輻射XAFS譜的研究 91
4.5 其他同步輻射微束X射線(xiàn)技術(shù)原位測(cè)量應(yīng)用的探討 94
4.5.1 同步輻射微束X射線(xiàn)透過(guò)式衍射技術(shù)應(yīng)用的探討 94
4.5.2 同步輻射微束X射線(xiàn)小角散射技術(shù)應(yīng)用的探討 95
參考文獻(xiàn) 95
第5章 生長(zhǎng)界面靜電場(chǎng)對(duì)生長(zhǎng)基元形成和取向的影響 98
5.1 晶體生長(zhǎng)界面對(duì)生長(zhǎng)基元取向性和有序度的影響的實(shí)驗(yàn)依據(jù) 98
5.1.1 點(diǎn)電荷的靜電場(chǎng) 98
5.1.2 界面晶面靜電場(chǎng)分布的計(jì)算 98
5.1.3 界面晶面靜電場(chǎng)分布計(jì)算的結(jié)果 103
5.1.4 界面晶面靜電場(chǎng)分布對(duì)邊界層內(nèi)生長(zhǎng)基元的作用和影響 105
5.2 晶面電荷的電勢(shì)場(chǎng) 106
5.2.1 點(diǎn)電荷的電勢(shì)場(chǎng) 106
5.2.2 晶面電勢(shì)場(chǎng)的數(shù)值計(jì)算 107
5.2.3 晶面電勢(shì)場(chǎng)的數(shù)值計(jì)算的結(jié)果 109
5.3 量子力學(xué)方法的電場(chǎng)的計(jì)算 110
5.4 本章小結(jié) 111
第6章 熔融法晶體生長(zhǎng)邊界層模型 112
6.1 熔融法晶體生長(zhǎng)邊界層模型創(chuàng)建的依據(jù) 112
6.2 熔融法晶體生長(zhǎng)邊界層模型內(nèi)容 113
6.3 熔融法晶體生長(zhǎng)邊界層模型的特點(diǎn) 114
第7章 宏觀(guān)晶體生長(zhǎng)規(guī)律的微觀(guān)機(jī)制 115
7.1 位錯(cuò)的形成和位錯(cuò)線(xiàn)垂直晶體生長(zhǎng)界面的微觀(guān)機(jī)制 115
7.1.1 晶格畸變及晶胞應(yīng)力產(chǎn)生的微觀(guān)機(jī)制 115
7.1.2 晶體位錯(cuò)和位錯(cuò)線(xiàn)形成的微觀(guān)機(jī)制 116
7.1.3 螺旋位錯(cuò)產(chǎn)生的微觀(guān)機(jī)制 117
7.1.4 摻雜晶體中的位錯(cuò)產(chǎn)生的微觀(guān)機(jī)制 117
7.1.5 影響位錯(cuò)形成的其他因素及改善方法 118
7.2 晶體應(yīng)力開(kāi)裂的微觀(guān)機(jī)制 118
7.2.1 晶體開(kāi)裂宏觀(guān)規(guī)律的研究 119
7.2.2 晶體開(kāi)裂的微觀(guān)機(jī)制 120
7.2.3 幾種開(kāi)裂現(xiàn)象的微觀(guān)機(jī)制分析 122
7.3 晶體生長(zhǎng)速率和轉(zhuǎn)速等生長(zhǎng)參數(shù)對(duì)晶體質(zhì)量影響的微觀(guān)機(jī)制 126
7.3.1 晶體生長(zhǎng)速率對(duì)晶體質(zhì)量影響的微觀(guān)機(jī)制 126
7.3.2 晶體生長(zhǎng)轉(zhuǎn)速對(duì)晶體質(zhì)量影響的微觀(guān)機(jī)制 127
7.4 分凝效應(yīng)的微觀(guān)機(jī)制 129
7.4.1 分凝效應(yīng)的宏觀(guān)規(guī)律 130
7.4.2 分凝現(xiàn)象的微觀(guān)機(jī)制 130
7.4.3 生長(zhǎng)速率和平衡分凝系數(shù)的關(guān)系 131
7.5 組分過(guò)冷的微觀(guān)機(jī)制 133
7.5.1 組分過(guò)冷現(xiàn)象的宏觀(guān)論述和分析 133
7.5.2 組分過(guò)冷形成的晶體生長(zhǎng)邊界層模型機(jī)制 136
7.6 多晶形成的微觀(guān)機(jī)制 139
7.7 晶體生長(zhǎng)習(xí)性的微觀(guān)機(jī)制 140
7.7.1 晶體生長(zhǎng)習(xí)性和相關(guān)晶體生長(zhǎng)習(xí)性的研究 140
7.7.2 KGW晶體生長(zhǎng)基元的演變及生長(zhǎng)習(xí)性預(yù)測(cè) 142
7.7.3 LBO晶體生長(zhǎng)習(xí)性研究 144
7.7.4 CBO晶體生長(zhǎng)習(xí)性研究 146
7.7.5α-aB2O4晶體生長(zhǎng)習(xí)性研究 146
7.7.6 BaBPO5晶體生長(zhǎng)習(xí)性研究 148
7.7.7 Bi4Ge3O12晶體生長(zhǎng)習(xí)性研究 149
參考文獻(xiàn) 150
第8章 助溶劑助溶作用微觀(guān)機(jī)理初步研究 152
8.1 助溶劑作用的微觀(guān)機(jī)制探討 152
8.2 LBO晶體自助溶生長(zhǎng)和MoO3助溶生長(zhǎng)結(jié)構(gòu)基元的分析 152
8.2.1 LBO晶體兩種助溶生長(zhǎng)的高溫溶液的拉曼光譜分析 153
8.2.2 把大基團(tuán)裂解成較小的基團(tuán)是優(yōu)良的助溶劑作用機(jī)制 153
8.2.3 MoO3助溶劑作用機(jī)理 153
8.3 微觀(guān)作用機(jī)理推測(cè)的一些實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證 156
參考文獻(xiàn) 157
晶體生長(zhǎng)邊界層模型應(yīng)用的展望 159
后記 160
彩圖