光電對(duì)抗材料基礎(chǔ)

　　本書(shū)是光電對(duì)抗領(lǐng)域的專(zhuān)業(yè)性書(shū)籍。光電對(duì)抗技術(shù)是諸多領(lǐng)域的交叉學(xué)科，而光電干擾材料又是光電對(duì)抗裝備的核心。本書(shū)的目的在于引導(dǎo)讀者熟悉光電對(duì)抗領(lǐng)域的核心技術(shù)，并且能從材料的光電干擾性能出發(fā)來(lái)分析問(wèn)題和解決問(wèn)題。本書(shū)以大氣物理學(xué)、材料物理、光度學(xué)和輻射度學(xué)、煙火技術(shù)為基礎(chǔ)，較系統(tǒng)地研究和論述了光輻射型、衰減型、隱身型、壓制型光電干擾材料的作用原理、制備和分散技術(shù)、效能評(píng)估方法以及在作戰(zhàn)中的應(yīng)用。它不僅反映了當(dāng)前的新科研成果和觀點(diǎn)，同時(shí)也反映了國(guó)內(nèi)外光電對(duì)抗材料技術(shù)的新進(jìn)展和科學(xué)前沿。

暫缺《光電對(duì)抗材料基礎(chǔ)》作者簡(jiǎn)介