光學(xué)薄膜材料的理論與實(shí)踐

第1章 引言
1．1 概述
1．2 薄膜物理與固體物理
1．3 小議光學(xué)薄膜制備
1．3．1 PVD和CVD技術(shù)
1．3．2 關(guān)于PIAD的一些考慮
1．3．3 睜性關(guān)聯(lián)
1．4 本書的內(nèi)容與組織結(jié)構(gòu)
參考文獻(xiàn)
第一部分 基礎(chǔ)篇
第2章 光學(xué)常數(shù)的基本知識
2．1 線性光學(xué)的基本經(jīng)典色散模型
2．2 介電函數(shù)的解析性質(zhì)
2．3 經(jīng)典圖像下的光學(xué)常數(shù)與質(zhì)量密度
2．4 經(jīng)常用于薄膜表征實(shí)踐的其他色散模型：經(jīng)典以及高級模型
2．4．1 基本評述
2．4．2 Brendel模型
2．4．3 Tauc—Lorent，z模型
2．4．4 Cody—Lorentz模型
2．4．5 Forouhi Bloomer、模型
2．5 材料混合物
2．5．1 總體思路
2．5．2 Maxwell Garnett（MG）方法
2．5．3 Lorentz-Lorenz（LL）方法
2．5．4 等效介質(zhì)近似（EHA）或Bruggeman方法
2．5．5 基于Maxwell Garnett（HG）方法的一個(gè)模型計(jì)算
參考文獻(xiàn)
第3章 平面界面
3．1 菲涅耳公式
3．2 真實(shí)的薄膜，真實(shí)的表面
3．2．1 一些試驗(yàn)結(jié)果
3．2．2 光學(xué)各向同性評述
3．2．3 光學(xué)不均勻性評述
3．2．4 表面粗糙度評述
3．3 突變界面與連續(xù)形貌的對比
3．4 強(qiáng)度系數(shù)
參考文獻(xiàn)
第4章 薄膜、基底和多層膜
4．1 單層膜
4．1．1 通用方程
4．1．2 半波長膜層
4．1．3 1／4波長膜層
4．1．4 存在微弱折射率梯度的膜層（正入射情形下）
4．2 基底
4．3 基底上的單層膜
4．4 多層膜
4．5 范例
4．5．1 均勻的1／4波長和半波長膜層
4．5．2 1／4波長雙層膜系
4．5．3 1／4波長（0W）膜堆
4．5．4 布拉格反射鏡
4．5．5 皺褶濾光片
4．5．6 窄帶濾光片（NBP）
參考文獻(xiàn)
……
第二部分 逆向搜索過程
第5章 薄膜光學(xué)常數(shù)的試驗(yàn)確定
第6章 膜系設(shè)計(jì)中的材料問題
第三部分 用于紫外/可見波段應(yīng)用的基本鍍膜材料
第7章 氧化物薄膜：多孔薄膜與致密薄膜
第8章 其他紫外/可見波段的鍍膜材料
第四部分 亞波長和納米結(jié)構(gòu)薄膜
第9章 異構(gòu)薄膜：概述
第10章 強(qiáng)烈多孔材料和表面結(jié)構(gòu)
第11章 電介質(zhì)混合物
第12章 金屬島狀薄膜
第13章結(jié)束語
附錄A
附錄B
附錄C
附錄D