Steven H.Voldman博士由于在CMOS、SOI和SiGe工藝下的靜電放電(ESD)保護方面所作出的貢獻,而成為了ESD領(lǐng)域的首位IEEE Fellow。他于1979年在布法羅大學(xué)獲得工程學(xué)學(xué)士學(xué)位;并于1981年在麻省理工學(xué)院(MIT)獲得了電子工程方向的一個碩士學(xué)位;后來又在MIT獲得第二個電子工程學(xué)位(工程碩士學(xué)位);1986年他在IBM的駐地研究員計劃的支持下,從佛蒙特大學(xué)獲得了工程物理學(xué)碩士學(xué)位,并于1991年從該校獲得電子工程博士學(xué)位。他作為IBM研發(fā)團隊的一員已經(jīng)有25年的歷史,主要致力于半導(dǎo)體器件物理、器件設(shè)計和可靠性(如軟失效率、熱電子、漏電機制、閂鎖、ESD和EOS)的研究工作。他在ESD和CMOS閂鎖領(lǐng)域獲得了245項美國專利。