精密激光測(cè)量技術(shù)與系統(tǒng)

前言
第1章 激光基本原理及典型器件
1．1 激光的基本原理
1．1．1 黑體輻射普朗克公式
1．1．2 光與物質(zhì)的共振相互作用
1．1．3 粒子數(shù)反轉(zhuǎn)與光放大
1．1．4 激光介質(zhì)增益系數(shù)與增益曲線
1．1．5 光的自激振蕩和振蕩條件
1．1．6 光學(xué)諧振腔與激光模式選擇
1．1．7 基模高斯光束及其特性
1．1．8 激光的基本特性
1．2 常用激光器
1．2．1 激光器的基本結(jié)構(gòu)
1．2．2 固體激光器
1．2．3 氣體激光器
1．2．4 半導(dǎo)體激光器
1．3 典型的激光器件
1．3．1 分光鏡
1．3．2 偏振分光鏡
1．3．3 波片
1．3．4 角錐棱鏡
1．3．5 激光準(zhǔn)直鏡
1．3．6 光隔離器
1．3．7 衍射光柵
1．3．8 聲光調(diào)制器
1．3．9 電光調(diào)制器
第2章 激光干涉測(cè)量技術(shù)與系統(tǒng)
2．1 激光干涉測(cè)量基本原理與系統(tǒng)組成
2．1．1 光波的疊加及干涉現(xiàn)象
2．1．2 激光干涉測(cè)量原理
2．1．3 激光干涉測(cè)量系統(tǒng)與典型儀器
2．2 激光干涉測(cè)量中的關(guān)鍵技術(shù)
2．2．1 激光穩(wěn)頻技術(shù)
2．2．2 雙頻激光生成技術(shù)
2．2．3 干涉信號(hào)相位測(cè)量技術(shù)
2．2．4 空氣折射率測(cè)量技術(shù)
2．3 激光干涉儀的典型應(yīng)用
2．3．1 作為獨(dú)立測(cè)量?jī)x器的典型應(yīng)用
2．3．2 作為嵌入式測(cè)量部件的典型應(yīng)用
2．4 激光干涉測(cè)量系統(tǒng)的測(cè)量誤差
2．4．1 激光干涉儀內(nèi)在的原理誤差
2．4．2 環(huán)境因素相關(guān)測(cè)量誤差
2．4．3 安裝不當(dāng)引入的測(cè)量誤差
2．4．4 典型系統(tǒng)測(cè)量誤差綜合分析
2．5 新一代激光干涉測(cè)量面臨的挑戰(zhàn)與發(fā)展趨勢(shì)
第3章 激光測(cè)距技術(shù)與系統(tǒng)
3．1 脈沖激光測(cè)距原理及關(guān)鍵技術(shù)
3．1．1 脈沖激光測(cè)距原理
3．1．2 關(guān)鍵技術(shù)分析
3．2 相位激光測(cè)距原理及關(guān)鍵技術(shù)
3．2．1 相位激光測(cè)距原理
3．2．2 多測(cè)尺相位激光測(cè)距方法
3．2．3 相位激光測(cè)距關(guān)鍵技術(shù)
3．3 多波長(zhǎng)（合成波長(zhǎng)）干涉測(cè)量
3．3．1 多波長(zhǎng)干涉測(cè)量原理
3．3．2 多波長(zhǎng)干涉測(cè)量關(guān)鍵技術(shù)
3．4 激光調(diào)頻、掃頻干涉測(cè)距原理及關(guān)鍵技術(shù)
3．4．1 調(diào)頻干涉測(cè)量技術(shù)
3．4．2 三光束調(diào)頻干涉測(cè)量技術(shù)
3．4．3 半導(dǎo)體正弦調(diào)頻連續(xù)波測(cè)量技術(shù)
3．4．4 調(diào)頻干涉測(cè)量關(guān)鍵技術(shù)
3．4．5 波長(zhǎng)掃描干涉測(cè)量技術(shù)
3．5 基于飛秒激光頻率梳的絕對(duì)距離測(cè)量方法
3．5．1 飛秒激光光源技術(shù)
3．5．2 頻率梳齒間干涉相位測(cè)距法
3．5．3 脈沖飛行時(shí)間與互相關(guān)干涉聯(lián)合測(cè)距法
3．5．4 雙光學(xué)頻率梳的飛行時(shí)間與互相關(guān)干涉條紋辨析測(cè)距法
3．5．5 頻率梳光譜分辨干涉測(cè)距法
3．5．6 飛行時(shí)間法、多波長(zhǎng)干涉與光譜分辨干涉法組合測(cè)量方法
3．5．7 參考光學(xué)頻率梳的多波長(zhǎng)干涉測(cè)距法
第4章 激光光柵測(cè)量技術(shù)與系統(tǒng)
4．1 黑白光柵測(cè)量原理及關(guān)鍵技術(shù)
4．1．1 光柵測(cè)量的基本原理和概念
4．1．2 莫爾條紋的幾何光學(xué)原理
4．1．3 莫爾條紋的衍射原理
4．2 基于莫爾條紋的光柵光學(xué)系統(tǒng)
4．2．1 單光柵光學(xué)系統(tǒng)
4．2．2 雙光柵光學(xué)系統(tǒng)
4．2．3 三光柵光學(xué)系統(tǒng)
4．3 基于衍射光柵干涉原理的位移測(cè)量技術(shù)
4．3．1 基于傅里葉光學(xué)的光柵衍射特性分析
4．3．2 光柵的多普勒頻移
4．3．3 單衍射光柵位移測(cè)量技術(shù)
4．3．4 雙平行光柵干涉式測(cè)量技術(shù)
4．3．5 兩垂直光柵——邁克耳孫式光柵干涉測(cè)量技術(shù)
4．3．6 可增大垂向測(cè)量范圍的光柵自準(zhǔn)直技術(shù)
4．3．7 雙頻激光光柵干涉測(cè)量技術(shù)
4．3．8 多自由度測(cè)量技術(shù)
4．4 光柵測(cè)量系統(tǒng)的誤差分析
4．4．1 光柵測(cè)量系統(tǒng)的光電轉(zhuǎn)換與電學(xué)細(xì)分技術(shù)
4．4．2 光柵測(cè)量系統(tǒng)主要誤差源
第5章 激光共焦測(cè)量技術(shù)與系統(tǒng)
5．1 激光共焦測(cè)量基本原理
5．1．1 菲涅耳衍射理論
5．1．2 薄透鏡的三維點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)
5．1．3 共焦顯微三維成像技術(shù)
5．2 激光共焦測(cè)量中的關(guān)鍵技術(shù)
5．2．1 共焦顯微測(cè)量掃描技術(shù)
5．2．2 共焦顯微測(cè)量分辨力
5．3 共焦顯微測(cè)量典型技術(shù)
5．3．1 軸向差動(dòng)共焦顯微測(cè)量技術(shù)
5．3．2 橫向光瞳濾波共焦顯微測(cè)量技術(shù)
第6章 激光自準(zhǔn)直技術(shù)與系統(tǒng)
6．1 激光自準(zhǔn)直基本原理
6．1．1 激光自準(zhǔn)直理想模型
6．1．2 激光自準(zhǔn)直通用模型
6．2 光束的漂移及抑制
6．2．1 光束質(zhì)量的影響因素
6．2．2 光束漂移形式
6．2．3 光束漂移分離檢測(cè)方法
6．3 典型自準(zhǔn)直系統(tǒng)的分辨力影響因素
6．3．1 影響分辨力的因素
6．3．2 分辨力提高形式
參考文獻(xiàn)