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內(nèi)容簡介

　　本書是新型顯示行業(yè)的專利分析報告。報告從該行業(yè)的專利（國內(nèi)、國外）申請、授權(quán)、申請人的已有專利狀態(tài)、其他先進(jìn)國家的專利狀況、同領(lǐng)域領(lǐng)先企業(yè)的專利壁壘等方面入手，充分結(jié)合相關(guān)數(shù)據(jù)，展開分析，并得出分析結(jié)果。本書是了解該行業(yè)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀并預(yù)測未來走向，幫助企業(yè)做好專利預(yù)警的必備工具書。

作者簡介

　　國家知識產(chǎn)權(quán)局，原名中國專利局。1980年經(jīng)國務(wù)院批準(zhǔn)成立。1998年國務(wù)院機(jī)構(gòu)改革，中國專利局更名為國家知識產(chǎn)權(quán)局，成為國務(wù)院的直屬機(jī)構(gòu)，主管專利工作和統(tǒng)籌協(xié)調(diào)涉外知識產(chǎn)權(quán)事宜。楊鐵軍，中共黨員，漢族，1955年12月生，北京人，研究員，畢業(yè)于長春郵電學(xué)院。1983年至1998年任中國專利局電學(xué)發(fā)明審查部審查員、副室主任、副部長；1998年至2003年任國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局電學(xué)發(fā)明審查部副部長、部長；2004年任國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局通信發(fā)明審查部部長；2004年至2006年任國家知識產(chǎn)權(quán)局專利局秘書長、審查業(yè)務(wù)管理部部長等職務(wù)；2006年7月至今，任國家知識產(chǎn)權(quán)局副局長、黨組成員。

圖書目錄

第1章前言\t20
1.1 研究背景\t20
1.1.1 激光顯示技術(shù)發(fā)展概況\t20
1.1.2 激光顯示技術(shù)產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀\t21
1.1.3 激光顯示技術(shù)產(chǎn)業(yè)需求\t23
1.2 研究對象和方法\t23
1.2.1 技術(shù)分解\t24
1.2.2 檢索策略\t25
1.2.3 報告體系\t25
第2章激光激發(fā)熒光技術(shù)專利分析\t26
2.1 概述\t26
2.2 全球?qū)＠麘B(tài)勢分析\t27
2.2.1 申請趨勢分析\t27
2.2.2 申請區(qū)域分布\t28
2.2.3 申請人\t29
2.3 中國專利態(tài)勢分析\t31
2.3.1 申請趨勢分析\t32
2.3.2 省市分布\t33
2.3.3 國內(nèi)/國外申請人分布\t33
2.3.4 國內(nèi)申請的法律狀態(tài)和類型分布\t36
2.4 專利技術(shù)發(fā)展分析\t39
2.4.1 技術(shù)構(gòu)成分析\t39
2.4.2 技術(shù)發(fā)展路線分析\t44
2.4.3 技術(shù)功效分析\t49
2.5 早期基礎(chǔ)性專利分析\t51
2.5.1 日本NEC和愛普生早期基礎(chǔ)性專利分析\t51
2.5.2 中國光峰光電早期基礎(chǔ)性專利分析\t53
2.5.3 飛利浦早期基礎(chǔ)性專利分析\t55
2.5.4 早期基礎(chǔ)性專利的啟示\t56
2.6 小結(jié)\t57
第3章激光顯示屏幕專利分析\t59
3.1 概述\t59
3.2 全球?qū)＠麘B(tài)勢分析\t61
3.2.1 申請趨勢分析\t61
3.2.2 申請區(qū)域分布\t63
3.2.3 申請人\t64
3.3 中國專利態(tài)勢分析\t67
3.3.1 申請趨勢分析\t67
3.3.2 省市分布\t68
3.3.3 國內(nèi)/國外申請人分布\t69
3.3.4 國內(nèi)申請的法律狀態(tài)和類型分析\t71
3.4 專利技術(shù)發(fā)展分析\t73
3.4.1 技術(shù)構(gòu)成分析\t73
3.4.2 技術(shù)發(fā)展路線分析\t79
3.4.3 技術(shù)功效分析\t82
3.5 小結(jié)\t93
第4章三地激光激發(fā)熒光技術(shù)發(fā)展對比分析\t95
4.1 概述\t95
4.2 中國大陸主要創(chuàng)新主體發(fā)展?fàn)顩r\t95
4.2.1 光峰光電\t95
4.2.2 海信\t98
4.2.3 威創(chuàng)視訊\t100
4.2.4 中國華錄\t101
4.2.5 雅圖\t102
4.2.6 科汀光學(xué)\t103
4.2.7 億思達(dá)\t103
4.2.8 南京歐帝\t104
4.2.9 深圳大學(xué)\t106
4.3 中國臺灣主要創(chuàng)新主體發(fā)展?fàn)顩r\t106
4.3.1 臺達(dá)電子\t106
4.3.2 中強(qiáng)光電\t108
4.3.3 明基友達(dá)\t109
4.3.4 宏碁\t111
4.3.5 鴻海集團(tuán)\t111
4.4 日本主要創(chuàng)新主體發(fā)展?fàn)顩r\t113
4.4.1 卡西歐\t113
4.4.2 愛普生\t115
4.4.3 NEC\t117
4.4.4 理光\t118
4.4.5 美蓓亞\t119
4.4.6 松下\t120
4.4.7 奧林巴斯\t121
4.4.8 夏普\t121
4.4.9 日立\t122
4.5 進(jìn)入激光激發(fā)熒光技術(shù)領(lǐng)域的三地企業(yè)\t124
4.5.1 企業(yè)與激光顯示產(chǎn)品相關(guān)的主營業(yè)務(wù)比較\t124
4.5.2 產(chǎn)品比較\t125
4.6 專利情況比較\t126
4.6.1 申請量比較\t126
4.6.2 最早提出時間比較\t127
4.6.3 主要企業(yè)專利比較\t128
4.6.4 三地主要專利技術(shù)比較\t129
4.7 小結(jié)\t140
第5章微視公司激光顯示技術(shù)專利分析\t142
5.1 概述\t142
5.2 微視公司專利態(tài)勢分析\t142
5.2.1 歷年專利申請量\t142
5.2.2 目標(biāo)國家/地區(qū)分析\t143
5.2.3 主要目標(biāo)國家/地區(qū)歷年專利申請量\t144
5.3 發(fā)明人團(tuán)隊\t145
5.3.1 核心發(fā)明人主導(dǎo)的研發(fā)模式\t145
5.3.2 發(fā)明人數(shù)量分析\t150
5.3.3 專利申請與經(jīng)營狀況分析\t151
5.3.4 收購專利的發(fā)明人分析\t153
5.3.5 主要發(fā)明人\t155
5.4 微視公司產(chǎn)品專利透視\t164
5.4.1 視網(wǎng)膜顯示\t165
5.4.2 條形碼掃描器\t167
5.4.3 微型投影儀\t168
5.4.4 平視顯示器（HUD）\t171
5.4.5 內(nèi)窺鏡\t174
5.5 小結(jié)\t175
第6章行業(yè)典型專利策略研究\t176
6.1 概述\t176
6.2 微視公司專利申請策略\t176
6.2.1 合理利用臨時申請\t177
6.2.2 積極利用延續(xù)申請\t178
6.3 核心技術(shù)保護(hù)策略\t179
6.3.1 技術(shù)來源分析\t180
6.3.2 對來源技術(shù)改進(jìn)分析\t182
6.3.3 美國專利布局分析\t185
6.3.4 核心專利全球布局分析\t190
6.4 專利組合價值評價\t193
6.5 合作開發(fā)和專利收購分析\t195
6.5.1 合作研發(fā)\t196
6.5.2 專利收購\t197
6.5.3 專利許可與共同研發(fā)\t202
6.6 小結(jié)\t208
第7章結(jié)論\t209