相變存儲器與應用基礎(chǔ)

第1章 緒論
1．1 半導體存儲器簡介
1．2 相變存儲器綜述
1．3 相變存儲器研究現(xiàn)狀
1．3．1 相變存儲器材料研究
1．3．2 相變存儲器結(jié)構(gòu)研究
1．3．3 相變存儲器選通器件研究
1．3．4 相變存儲器芯片研究
參考文獻
第2章 新型相變材料與工程化
2．1 AlxSb2Te3相變材料
2．1．1 AlxSb2Te3材料的制備和表征
2．1．2 AlxSb2Te3器件的制備和表征
2．2 AlxSb3Te相變材料
2．2．1 AlxSb3Te材料的制備和表征
2．2．2 AlxSb3Te器件的制備和表征
2．3 Al2Te3—Sb2Te3體系相變材料
2．3．1 AI2Te3，Sb2Te3和Al2Sb2Te6材料的制備和表征
2．3．2 Al2Te3，Sb2Te3和Al2Sb2Te6器件的制備和表征
2．4 快速TiSbTe相變材料
2．4．1 TiSbTe材料的制備與表征
2．4．2 TiSbTe器件的制備與表征
2．5 Si2Sb2Tex系列相變材料
2．6 SiSbTe相變材料的工程化
2．6．1 SiSbTe材料的制備與表征
2．6．2 SiSbTe器件的制備和表征
參考文獻
第3章 相變材料結(jié)構(gòu)與相變機理
3．1 硅摻雜Sb2Te3相變材料第一性原理計算
3．1．1 SixSb2Te3相變材料的第一性原理計算
3．1．2 Si3Sb2Te3相變材料的分子動力學模擬
3．2 低濃度鋁摻雜Sb2Te3相變材料的從頭算研究
3．2．1 鋁摻雜銻碲相變材料的特點
3．2．2 鋁摻雜銻碲相變材料的第一性原理計算研究
3．2．3 Al—Sb2Te3相變材料的分子動力學模擬與結(jié)果討論
3．3 微觀結(jié)構(gòu)與相變行為研究
3．3．1 研究方法
3．3．2 相變存儲材料Ge2Sb2Te5
3．3．3 相變存儲材料Si2Sb2Te5
參考文獻
第4章 二極管陣列器件及其高密度相變存儲器
4．1 雙溝道外延二極管陣列器件設(shè)計
4．1．1 相變存儲器工作原理
4．1．2 二極管陣列器件設(shè)計
4．1．3 二極管陣列器件性能分析
4．2 二極管陣列器件及相變存儲器芯片
4．2．1 雙溝道外延二極管陣列器件
4．2．2 二極管選通的相變存儲器陣列單元
4．2．3 二極管選通的相變存儲器芯片
參考文獻
第5章 相變存儲器芯片設(shè)計
5．1 相變存儲器芯片的系統(tǒng)框架
5．2 相變存儲單元及陣列設(shè)計
5．3 控制邏輯設(shè)計
5．4 譯碼電路
5．5 輸入輸出電路
5．6 寫模塊電路
5．7 電流脈沖寬度可調(diào)電路
5．8 帶隙基準電路
5．9 讀出電路
5．10 預讀校驗寫入算法
5．11 PCRAM芯片測試結(jié)果
參考文獻
第6章 相變存儲器測試與應用
6．1 相變存儲器的測試概述
6．2 相變材料測試
6．3 相變存儲器件測試
6．3．1 測試系統(tǒng)的軟硬件條件
6．3．2 相變存儲器初始化操作
6．3．3 非累積性擦操作測試方法
6．4 分立相變器件的標準測試流程
6．4．1 分立相變器件的標準測試流程
6．4．2 基于標準化自動測試流程的數(shù)據(jù)分析算法
6．5 相變存儲陣列及存儲芯片測試
6．5．1 芯片級測試系統(tǒng)硬件簡介
6．5．2 小容量相變存儲陣列的電流驅(qū)動方法
6．5．3 基于1Kb的相變存儲陣列測試系統(tǒng)
6．6 兆位級相變存儲器芯片測試方法研究
6．7 相變存儲器的應用
參考文獻
索引