第1章幸福生活從美麗與微觀開始
001展現繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界002
002復制美麗——相片彩色相片與數碼相機004
003薄膜技術使機器人不斷進化利用薄膜材料與計算機
進行精密制備006
004創(chuàng)造五種感官視覺、聽覺、嗅覺、味覺與觸覺的創(chuàng)造008
005制造人工智能010
006我們身邊的電子產品都在使用薄膜012
007利用不分解的壓延技術,可以薄到什么程度014
008制造薄膜與制作精細圖案016
COLUMN真空的含義018
第2章制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
009真空——壓強低于大氣壓的空間狀態(tài)020
010真空的單位與壓強的單位：帕斯卡(Pa)022
011抽出和吸附——真空泵的分類024
012真空的分析和測量真空計026
013真空裝置的制造方法028
COLUMN質量瞬移030
第3章薄膜的制備
014薄膜的形成——先氣化,再固化沉積032
015四種氣化源034
016單層生長與形核長大薄膜的生長①036
017薄膜內部缺陷薄膜的生長②038
018僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結合040
019目標：單晶薄膜042
COLUMN出身和教育同樣重要044viv
第4章薄膜特有的性質
020薄膜的密度和厚度會隨時間減小046
021薄膜電阻的變化比體材料大048
022熱穩(wěn)定性降低通過時效處理加以克服05
COLUMN薄膜和基板的連接052
第5章增強基板與薄膜結合的技術
023制膜的基礎：平整的基板054
024前期處理：使基板表面完全裸露056
025前期處理的最后工序：干燥058
026制備附著強度更強的薄膜060
027改變氣化源、增加附著強度062
028薄膜與基板的相合性更為重要064
029著陸點：險峻的山地066
030得到希望的薄膜組成068
031制造用于大面積集成電路的非晶薄膜070
032電遷移斷線及其解決方法072
COLUMN太陽之子——等離子體074
第6章等離子體在薄膜制備中的重要性
033等離子體的神奇之處及其應用076
034通過放電獲得等離子體078
035低氣壓(良好真空)下的磁控放電080
036產生薄膜用等離子體的五種方法082
037薄膜制備的難題——塵埃084
COLUMN望遠鏡和照相機視場變亮的奧秘086
第7章從古代沿用至今的蒸鍍法
038蒸發(fā)源088
039加工等厚膜的方法090
040離子鍍的使用092
041進一步發(fā)揮離子的作用094
042防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法096
043制作透明導電的薄膜透明導電薄膜的蒸鍍方法098
COLUMN活學活用100
第8章大面積氣化源、適于批量生產的濺射法
044濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類決定的102
045濺射產生的原子遵循余弦法則且速度非?？?04
046濺射的主要方式106
047以低電壓、定壓(高真空)為目標的磁控濺射108
048支撐半導體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射110
049利用反應濺射制作高性能電阻膜112
050用濺射法制作氧化物高溫超導膜114
051低電壓下制造透明導電膜(氧化物)ITO116
052薄膜加工的過渡——從平面成膜到微孔成膜118
053利用離子進行超微細孔的填埋120
054向高真空、無氬氣濺射的過渡122
COLUMN神奇的過程——從氣體到薄膜124
第9章由氣體制作薄膜的氣相沉積法
055氣體向固體的轉變：薄膜的氣相沉積126
056很多的CVD方法已被實用化128
057CVD法制備IC中至關重要的硅系薄膜130
058高清彩色電視用的硅薄膜132
059高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作134
060用氣相沉積法制備金屬導體薄膜136
061表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜138
COLUMN從水(液體)中提取薄膜(固體)140
第10章在液體中制作鍍膜
062鍍膜技術的發(fā)展142
063液相鍍膜和真空薄膜中的核生長144
064精密鍍膜在電氣領域的應用146
COLUMN用世界上最小的刀進行切削加工148vii
第11章將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術
065蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀150
066用氣體離子進行蝕刻152
067最關鍵的一步——等離子體的制備154
068反應氣體是重要的156
069決定蝕刻的條件158
070利用極細離子束進行故障修理160
071利用CMP進行平坦化處理162
072無CMP的平坦化技術164
COLUMN向偉大的夢想前進！166
第12章薄膜發(fā)展的無限可能性
073操控原子，制造未來儀器168
074薄膜——帶動世界通信網絡發(fā)展170
075用微動同步器挽救生命172
076生物計算機的使用174參考文獻177
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