微小世界里的新天地：神奇的薄膜

第1章幸福生活從美麗與微觀開(kāi)始
　001展現(xiàn)繽紛色彩的顏料用微小粉末描繪美麗世界002
　002復(fù)制美麗——相片彩色相片與數(shù)碼相機(jī)004
　003薄膜技術(shù)使機(jī)器人不斷進(jìn)化利用薄膜材料與計(jì)算機(jī)
　進(jìn)行精密制備006
　004創(chuàng)造五種感官視覺(jué)、聽(tīng)覺(jué)、嗅覺(jué)、味覺(jué)與觸覺(jué)的創(chuàng)造008
　005制造人工智能010
　006我們身邊的電子產(chǎn)品都在使用薄膜012
　007利用不分解的壓延技術(shù),可以薄到什么程度014
　008制造薄膜與制作精細(xì)圖案016
　COLUMN真空的含義018
第2章制備薄膜的重要環(huán)境條件——真空
　009真空——壓強(qiáng)低于大氣壓的空間狀態(tài)020
　010真空的單位與壓強(qiáng)的單位：帕斯卡(Pa)022
　011抽出和吸附——真空泵的分類(lèi)024
　012真空的分析和測(cè)量真空計(jì)026
　013真空裝置的制造方法028
　COLUMN質(zhì)量瞬移030
第3章薄膜的制備
　014薄膜的形成——先氣化,再固化沉積032
　015四種氣化源034
　016單層生長(zhǎng)與形核長(zhǎng)大薄膜的生長(zhǎng)①036
　017薄膜內(nèi)部缺陷薄膜的生長(zhǎng)②038
　018僅有薄膜還不夠薄膜與基板的結(jié)合040
　019目標(biāo)：?jiǎn)尉П∧?42
　COLUMN出身和教育同樣重要044viv
第4章薄膜特有的性質(zhì)
　020薄膜的密度和厚度會(huì)隨時(shí)間減小046
　021薄膜電阻的變化比體材料大048
　022熱穩(wěn)定性降低通過(guò)時(shí)效處理加以克服05
　COLUMN薄膜和基板的連接052
第5章增強(qiáng)基板與薄膜結(jié)合的技術(shù)
　023制膜的基礎(chǔ)：平整的基板054
　024前期處理：使基板表面完全裸露056
　025前期處理的最后工序：干燥058
　026制備附著強(qiáng)度更強(qiáng)的薄膜060
　027改變氣化源、增加附著強(qiáng)度062
　028薄膜與基板的相合性更為重要064
　029著陸點(diǎn)：險(xiǎn)峻的山地066
　030得到希望的薄膜組成068
　031制造用于大面積集成電路的非晶薄膜070
　032電遷移斷線及其解決方法072
　COLUMN太陽(yáng)之子——等離子體074
第6章等離子體在薄膜制備中的重要性
　033等離子體的神奇之處及其應(yīng)用076
　034通過(guò)放電獲得等離子體078
　035低氣壓(良好真空)下的磁控放電080
　036產(chǎn)生薄膜用等離子體的五種方法082
　037薄膜制備的難題——塵埃084
　COLUMN望遠(yuǎn)鏡和照相機(jī)視場(chǎng)變亮的奧秘086
第7章從古代沿用至今的蒸鍍法
　038蒸發(fā)源088
　039加工等厚膜的方法090
　040離子鍍的使用092
　041進(jìn)一步發(fā)揮離子的作用094
　042防止蒸鍍材料與薄膜間的成分變化激光沉積法096
　043制作透明導(dǎo)電的薄膜透明導(dǎo)電薄膜的蒸鍍方法098
　COLUMN活學(xué)活用100
第8章大面積氣化源、適于批量生產(chǎn)的濺射法
　044濺射率是由離子能量和薄膜材料的種類(lèi)決定的102
　045濺射產(chǎn)生的原子遵循余弦法則且速度非?？?04
　046濺射的主要方式106
　047以低電壓、定壓(高真空)為目標(biāo)的磁控濺射108
　048支撐半導(dǎo)體IC高集成度發(fā)展的鋁合金濺射110
　049利用反應(yīng)濺射制作高性能電阻膜112
　050用濺射法制作氧化物高溫超導(dǎo)膜114
　051低電壓下制造透明導(dǎo)電膜(氧化物)ITO116
　052薄膜加工的過(guò)渡——從平面成膜到微孔成膜118
　053利用離子進(jìn)行超微細(xì)孔的填埋120
　054向高真空、無(wú)氬氣濺射的過(guò)渡122
　COLUMN神奇的過(guò)程——從氣體到薄膜124
第9章由氣體制作薄膜的氣相沉積法
　055氣體向固體的轉(zhuǎn)變：薄膜的氣相沉積126
　056很多的CVD方法已被實(shí)用化128
　057CVD法制備IC中至關(guān)重要的硅系薄膜130
　058高清彩色電視用的硅薄膜132
　059高誘電率薄膜和低誘電率薄膜的制作134
　060用氣相沉積法制備金屬導(dǎo)體薄膜136
　061表面改性法制備氧化薄膜、氮化薄膜138
　COLUMN從水(液體)中提取薄膜(固體)140
第10章在液體中制作鍍膜
　062鍍膜技術(shù)的發(fā)展142
　063液相鍍膜和真空薄膜中的核生長(zhǎng)144
　064精密鍍膜在電氣領(lǐng)域的應(yīng)用146
　COLUMN用世界上最小的刀進(jìn)行切削加工148vii
第11章將薄膜加工成電路、晶體管等的蝕刻技術(shù)
　065蝕刻法制備圖樣：在正確的位置加工正確的形狀150
　066用氣體離子進(jìn)行蝕刻152
　067最關(guān)鍵的一步——等離子體的制備154
　068反應(yīng)氣體是重要的156
　069決定蝕刻的條件158
　070利用極細(xì)離子束進(jìn)行故障修理160
　071利用CMP進(jìn)行平坦化處理162
　072無(wú)CMP的平坦化技術(shù)164
　COLUMN向偉大的夢(mèng)想前進(jìn)！166
第12章薄膜發(fā)展的無(wú)限可能性
　073操控原子，制造未來(lái)儀器168
　074薄膜——帶動(dòng)世界通信網(wǎng)絡(luò)發(fā)展170
　075用微動(dòng)同步器挽救生命172
　076生物計(jì)算機(jī)的使用174參考文獻(xiàn)177