聚席夫堿的合成與性能研究

1　緒　論
　1.1　聚席夫堿化合物的研究進(jìn)展
　1.2　聚席夫堿化合物應(yīng)用中存在的問題
2　單體與聚合物的合成與表征
　2.1　單體的合成
　2.2　聚合物的合成
　2.3　模型化合物合成
　2.4　化合物結(jié)構(gòu)與性能的表征
3　聚席夫堿電學(xué)、光譜學(xué)和力學(xué)性能的研究
　3.1　聚席夫堿的介電與導(dǎo)電性能研究
　3.2　聚席夫堿的硬度與模量的測量
4　聚席夫堿的非線性光學(xué)系數(shù)的測量
　4.1　共軛聚合物的三階非線性光學(xué)研究進(jìn)展
　4.2試驗(yàn)方法
　4.3　Z掃描原理
　4.4　Z掃描的結(jié)果與討論
　4.5　聚合物的光折變衍射效率的測量與討論
5　聚席夫堿的電子結(jié)構(gòu)與光譜的計(jì)算
　5.1　SchrOdinger方程及三個近似　　　　
　5.2　Hartree—Fock.Roothaan方程
　5.3　密度泛函理論(DFT)
　5.4　量子化學(xué)的計(jì)算
參考文獻(xiàn)
附　錄　試驗(yàn)原料與設(shè)備
　附錄Ⅰ　試驗(yàn)原料表
　附錄Ⅱ　試劑的提純及處理
　附錄Ⅲ　主要?驗(yàn)設(shè)備表
后　記