X射線(xiàn)熒光光譜分析基礎(chǔ)

前言
第一章 X射線(xiàn)熒光光譜原理
1.1 概述
1.2 X射線(xiàn)和X射線(xiàn)光譜
1.2.1 X射線(xiàn)的特征
1.2.2 X射線(xiàn)光譜
1.2.3 X射線(xiàn)和物質(zhì)的作用
1.3 特征熒光X射線(xiàn)
1.4 X射線(xiàn)的吸收和散射
1.4.1 X射線(xiàn)的吸收
1.4.2 X射線(xiàn)的散射
1.5 X射線(xiàn)的分光
1.6 X射線(xiàn)熒光光譜分析的特點(diǎn)和應(yīng)用
1.6.1 特點(diǎn)
1.6.2 應(yīng)用
第二章 波長(zhǎng)色散X射線(xiàn)熒光光譜儀
2.1 儀器的組成
2.2 熒光X射線(xiàn)的激發(fā)
2.2.1 X射線(xiàn)高壓發(fā)生器
2.2.2 X射線(xiàn)管
2.2.3 熱交換器
2.2.4 一次X射線(xiàn)濾光片
2.2.5 X射線(xiàn)光路
2.3 熒光X射線(xiàn)的分光
2.3.1 限制光欄
2.3.2 衰減器
2.3.3 準(zhǔn)直器
2.3.4 分光晶體
2.4 熒光X射線(xiàn)的探測(cè)和脈沖高度分析
2.4.1 正比計(jì)數(shù)器
2.4.2 閃爍計(jì)數(shù)器
2.4.3 脈沖高度分布和脈沖高度分析器
2.4.4 2(5)聯(lián)動(dòng)機(jī)構(gòu)
2.4.5 流氣型正比計(jì)數(shù)器芯線(xiàn)污染和清潔
2.4.6 氣體密度穩(wěn)定器
2.5 測(cè)角儀
2.6 固定道背景自動(dòng)扣除裝置
第三章 定性分析和半定量分析
3.1 定性分析
3.1.1 定性分析方法的建立
3.1.2 定性分析譜圖解析
3.1.3 譜峰分解
3.1.4 背景計(jì)算和扣除
3.2 半定量分析
3.2.1 半定量分析的一般情況
3.2.2 光電子基本參數(shù)法
3.2.3 散射線(xiàn)基本參數(shù)法
3.3 元素分布分析
3.3.1 γ-θ樣品臺(tái)
3.3.2 元素分布分析
3.3.3 微小區(qū)域分布分析
第四章 定量分析
4.1 概述
4.2 定量分析中的基體效應(yīng)
4.2.1 吸收效應(yīng)
4.2.2 增強(qiáng)效應(yīng)
4.3 基體效應(yīng)的數(shù)學(xué)校正
4.3.1 經(jīng)驗(yàn)系數(shù)法
4.3.2基本參數(shù)法
4.3.3 理論影響系數(shù)法
4.4 實(shí)驗(yàn)校正法
4.4.1 內(nèi)標(biāo)法
4.4.2 標(biāo)準(zhǔn)加入法(增量法)
4.4.3 稀釋法
4.5 定量分析的譜線(xiàn)干擾和校正
4.5.1 定量分析的譜線(xiàn)干擾
4.5.2 譜線(xiàn)干擾的消除和校正
4.6 定量分析步驟
4.6.1 定量分析測(cè)定條件選擇
4.6.2 定量分析流程
4.7 定量分析誤差
4.7.1 誤差的種類(lèi)
4.7.2 統(tǒng)計(jì)誤差的處理
4.7.3 精密度和準(zhǔn)確度
4.7.4 死時(shí)間和計(jì)數(shù)的漏計(jì)
4.7.5 靈敏度 檢測(cè)限 測(cè)定下限
4.8 定量分析管理
4.8.1 X射線(xiàn)強(qiáng)度的標(biāo)準(zhǔn)化
4.8.2 分析管理
4.9 薄膜和多層膜分析
4.9.1 薄膜X射線(xiàn)熒光光譜分析的一般概念
4.9.2 多層薄膜的基本參數(shù)法
4.9.3 薄膜分析的應(yīng)用
第五章 取樣、制樣和樣品保管
5.1 X射線(xiàn)熒光分析樣品誤差的類(lèi)型
5.2 樣品制備的一般方法
5.3 金屬樣品的取樣和制樣
5.3.1 金屬樣品的取樣
5.3.2 金屬樣品的表面處理
5.4 粉末樣品的取樣和制樣
5.4.1 粉末樣品的主要誤差來(lái)源
5.4.2 取樣
5.4.3 壓片法
5.4.4 特殊粉末制樣法
5.5 熔融制樣法
5.5.1 玻璃熔片法
5.5.2 熔融條件的選擇
5.5.3 熔融過(guò)程和注意事項(xiàng)
5.6 液體樣品的取樣和制樣
5.6.1 直接溶液法
5.6.2 紙上點(diǎn)滴法
5.6.3 分離富集法
5.7 特殊樣品制樣法
5.8 樣品的保存
5.8.1 金屬樣品的保存
5.8.2 粉末樣品的保存
第六章 能量色散及其他x射線(xiàn)熒光光譜分析方法
6.1 能量色散X射線(xiàn)熒光光譜分析
6.1.1 概述
6.1.2 能量色散X射線(xiàn)熒光光譜儀
6.1.3 應(yīng)用
6.2 全反射X射線(xiàn)熒光光譜分析
6.2.1 概述
6.2.2 全反射X射線(xiàn)熒光光譜儀
6.2.3 應(yīng)用
6.3 同步輻射X射線(xiàn)熒光光譜分析
6.3.1 概述
6.3.2 同步輻射源
6.3.3 應(yīng)用
6.4 微束X射線(xiàn)熒光光譜分析
6.4.1 概述
6.4.2 微東X射線(xiàn)熒光光譜儀
6.4.3 應(yīng)用
6.5 質(zhì)子激發(fā)X射線(xiàn)分析
6.5.1 概述
6.5.2 質(zhì)子激發(fā)X射線(xiàn)分析裝置
6.5.3 應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
附錄1 物理和化學(xué)基本常數(shù)
附錄2 元素及化合物密度
附錄3 吸收限波長(zhǎng)和臨界激發(fā)能量
附錄4 特征X射線(xiàn)波長(zhǎng)和能量
附錄5 K殼層熒光產(chǎn)額ωk
附錄6 K系伴線(xiàn)波長(zhǎng)(A)
附錄7 K系線(xiàn)輻射躍遷幾率
附錄8 干擾譜線(xiàn)表
附錄9(a) 質(zhì)量吸收系數(shù)(μ/ρ：Cm2/g)
附錄9(b) 質(zhì)量吸收系數(shù)(Mα、Mβ線(xiàn))
附錄10 熔融制樣燒失量校正方法和實(shí)例