表面化學(xué)分析

第1章 緒論
1.1 表面的重要性
1.2 表現(xiàn)特性
1.3 表現(xiàn)科學(xué)與表現(xiàn)分析
1.4 表現(xiàn)分析技術(shù)
思考題
參考文獻(xiàn)
第2章 電子能譜學(xué)
2.1 基本原理
2.2 結(jié)合能的實(shí)驗(yàn)測(cè)定
2.3 表現(xiàn)化學(xué)位移
2.4 金屬原子簇
2.5 荷電效應(yīng)及其補(bǔ)償
2.6 反向光電子能譜
思考題
參考文獻(xiàn)
第3章 電子能譜儀的結(jié)構(gòu)與實(shí)驗(yàn)技術(shù)
3.1 電子能譜儀結(jié)構(gòu)框圖
3.2 激發(fā)源
3.3 能量分析器
3.4 檢測(cè)器系統(tǒng)
3.5 真空系統(tǒng)
3.6 實(shí)驗(yàn)技術(shù)
3.7 計(jì)算機(jī)收譜及數(shù)據(jù)處理
3.8 XPS實(shí)驗(yàn)報(bào)告
3.9 電子能譜儀的最新進(jìn)展
思考題
參考文獻(xiàn)
第4章 XPS譜圖分析
4.1 終態(tài)效應(yīng)及電子譜線的伴線結(jié)構(gòu)
4.2 化學(xué)位移與化學(xué)態(tài)
4.3 固體表現(xiàn)能譜
思考題
參考文獻(xiàn)
第5章 XPS的定性、定量分析
5.1 定性分析
5.2 定量分析
思考題
參考文獻(xiàn)
第6章 XPS的應(yīng)用
6.1 XPS的常規(guī)應(yīng)用
6.2 XPS的特殊用途
思考題
參考文獻(xiàn)
第7章 XPS在半導(dǎo)體材料、表現(xiàn)薄膜和微電子器件中的應(yīng)用
7.1 前言
7.2 XPS檢測(cè)半導(dǎo)體表現(xiàn)污染
7.3 角解析XPS（ARXPS或可變極角XPS）的應(yīng)用
……
第8章 紫外光電子能譜和XPS價(jià)帶譜
第9章 俄歇電子能譜
第10章 定量表面分析中的計(jì)算與模擬
第11章 二次離子質(zhì)譜
第12章 離子散射譜
第13章 超高真空掃描隧道微學(xué)
第14章 掃描力顯微學(xué)
附錄1 表面化學(xué)分析和國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)化工作
附錄2 表面結(jié)構(gòu)的命名
附錄3 高聚物Cls化學(xué)位移表
主要索引