材料中的氦及氚滲透

第一章 材料中氦的微觀形態(tài)、分布及遷移
1.1 氦的引入和含量
1.2 單個(gè)氦原子及原子因
1.2.1 能量參數(shù)、氦原子的捕陷和簇聚
1.2.2 氦原子的遷移
1.3 氦泡
1.3.1 形成過程
1.3.2 泡內(nèi)的氦壓強(qiáng)及密度
1.3.3 研究氦泡的其他方法
1.3.4 加熱時(shí)氦泡的聚集長(zhǎng)大
第二章 氦的熱釋放、宏觀效應(yīng)及氦脆
2.1 金屬氚化物的氦釋放
2.2 離子注入固本中氦的熱釋放
2.3 氦與氫同位素的相互作用
2.4 表面效應(yīng)
2.6 不銹鋼的氦脆
2.6.1 高溫氦脆
2.6.2 低曼氦脆
2.7 自輻照引起的氦問題
2.7.1 輻照損傷
2.7.2 盥的自輻照現(xiàn)象
2.7.3 氦泡及氦的熱釋放
2.7.4 盥的a輻照對(duì)不銹鋼的效應(yīng)
第三章 氚的擴(kuò)散與滲透
3.1 氚的特性及其產(chǎn)生與儲(chǔ)存
3.2 氚的吸收與釋放
3.3 氚的擴(kuò)散
3.4 氚的滲透
第四章 防氚滲透阻擋層
4.1 氧化物層
4.2 鋁化物涂層
4.3 鈦基陶瓷涂層
4.4 硅化物涂層
4.5 阻擋層的滲透機(jī)制
4.6 阻擋層的其他特性
第五章 氫同位素及氦的離子束分析方法
5.1 盧瑟福背散射
5.2 增強(qiáng)質(zhì)子背散射及前沖散射方法
5.3 核反應(yīng)分析
5.4 二次離子質(zhì)譜
附錄
參考文獻(xiàn)