空間真空技術(shù)

     目 錄
   第一章 概論
    1.1空間真空技術(shù)的研究范疇
    1.2空間真空技術(shù)的特點
    1.3空間真空技術(shù)的應用
    1.4展望
   第二章空間真空環(huán)境
    2.1概述
    2.2氣體密度
    2.3分子沉環(huán)境
    2.4太陽輻射
    2.5微重力環(huán)境
    2.6原子氧環(huán)境
    2.7誘發(fā)的氣體環(huán)境
    2.8空間碎片環(huán)境
    2.9空間真空環(huán)境和航天器的相互作用
    2.9.1概述
    2.9.2真空環(huán)境和航天器的相互作用
   第三章 真空獲得
    3.1空間環(huán)境模擬試驗
    3.1.1空間環(huán)境模擬
    3.1.2空間環(huán)境模擬試驗及其分類
    3.2火箭發(fā)動機高空點火模擬設(shè)備
    3.2.1概述
    3.2.2真空抽氣系統(tǒng)
    3.3高軌道真空環(huán)境模擬
    3.3.1高軌道環(huán)境模擬中的真空問題
    3.3.2以擴散泵為主泵的熱真空模擬設(shè)備
    3.3.3用表面作用泵獲得清潔的真空環(huán)境
    3.3.4中國現(xiàn)有的高軌道環(huán)境模擬設(shè)備
    3.4分子流的非平衡態(tài)理論
    3.4.1簡單結(jié)構(gòu)中的非平衡分子流
    3.4.2復雜結(jié)構(gòu)中的非平衡分子流
    3.4.3分子沉與極高真空環(huán)境模擬
    3.5在軌航天器中的真空獲得技術(shù)
    3.5.1航天器周圍的分子環(huán)境
    3.5.2航天器真空裝置在軌排氣技術(shù)
    3.5.3極高真空分子屏實驗平臺
   第四章 空間真空環(huán)模試驗裝置
    4.1概述
    4.2空間真空環(huán)模試驗裝置設(shè)計的一般原則
    4.2.1大型真空容器的設(shè)計
    4.2.2真空抽氣系統(tǒng)的配置
    4.2.3冷熱環(huán)境設(shè)計
    4.2.4其它配套裝置
    4.2.5獲得真空環(huán)模的三個關(guān)鍵要素
    4.3空間真空環(huán)模裝置應用實例
    4.3.1全尺寸航天器用環(huán)模試驗裝置
    4.3.2組件部件用環(huán)模試驗裝置
    4.3.3TS－3離子發(fā)動機綜合試驗裝置
    4.3.4X射線望遠鏡空間環(huán)模檢測裝置
    4.3.5紅外掃描輻射計定標裝置
   第五章 真空測量
    5.1概述
    5.2空間環(huán)境模擬室中的真空測量
    5.2.1分子沉模擬－－“有效壓力”測量
    5.2.2非穩(wěn)定流模擬－－快速測量
    5.2.3超音速流模擬－－“靜壓”與“動壓”測量
    5.2.4復雜的溫度環(huán)境－一非熱力學平衡
    5.2.5綜合環(huán)境模擬－－抗干擾測量
    5.2.6特大系統(tǒng)中的真空測量
    5.3航天器上的真空測量
    5.3.1方向性效應
    5.3.2質(zhì)量選擇效應
    5.3.3原子氧再復合效應
    5.3.4空間固有離子的侵入
    5.3.5復雜、變化的被測對象
    5.3.6航天器的噴氣、放氣效應
    5.4星球表面的真空度測量
    5.5非平衡態(tài)分子流的測量
    5.5.1穩(wěn)態(tài)非均勻分子流的測量技術(shù)
    5.5.2瞬態(tài)分子流測量技術(shù)
    5.6指向性真空規(guī)
    5.6.1不同類型指向規(guī)的結(jié)構(gòu)
    5.6.2轉(zhuǎn)換器型指向性真空規(guī)
    5.6.3指向性真空規(guī)應用舉例
    5.7抗干擾與快速測量技術(shù)
    5.7.1抗干擾原理
    5.7.2影響規(guī)管快速反應的因素
    5.7.3抗干擾、快速真空規(guī)舉例
    5.8極高真空測量技術(shù)
    5.8.1深度宇空與極高真空測量
    5.8.2極高真空規(guī)
    5.8.3展望
    5.9空間科學中的真空計量標準
    5.9.1概述
    5.9.2超高和極高真空計量標準
    5.9.3原位置校準
    5.9.4超音速分子流校準
    5.9.5非穩(wěn)定流校準
   第六章 空間質(zhì)譜技術(shù)
    6.1質(zhì)譜技術(shù)與空間探測
    6.1.1探空質(zhì)譜計的測量參數(shù)
    6.1.2探空質(zhì)譜計的離子源
    6.1.3不同類型的探空質(zhì)譜計
    6.2質(zhì)譜技術(shù)在載人航天器中的應用
    6.2.1生命保障系統(tǒng)氣氛的質(zhì)譜分析
    6.2.2計算機監(jiān)測的質(zhì)譜計系統(tǒng)
    6.2.3航天員生理監(jiān)測質(zhì)譜計
    6.3空間誘發(fā)污染環(huán)境的質(zhì)譜監(jiān)測
    6.3.1誘發(fā)污染監(jiān)測的必要性
    6.3.2污染環(huán)境實時監(jiān)測質(zhì)譜計
    6.3.3分子污染物的質(zhì)譜分析與跟蹤
    6.4火箭發(fā)動機燃氣與燃料加注環(huán)境的氣氛分析
    6.4.1火箭發(fā)動機燃氣的質(zhì)譜分析
    6.4.2火箭燃料加注環(huán)境的氣氛分析
    6.5空間環(huán)境模擬設(shè)備中的氣體質(zhì)譜分析
    6.5.1模擬試驗時定向分子流的質(zhì)譜分析
    6.5.2衛(wèi)星分系統(tǒng)及部件的漏率測量
    6.5.3環(huán)模設(shè)備的殘氣分析
   第七章 檢漏技術(shù)
    7.1幾種主要的檢漏方法
    7.1.1氦質(zhì)譜檢漏
    7.1.2靜態(tài)法
    7.1.3Kr85法
    7.1.4氣泡法
    7.2地面環(huán)模試驗設(shè)備的檢漏
    7.2.1檢漏工作必須從設(shè)計階段開始
    7.2.2設(shè)備加工階段的檢漏工作
    7.2.3設(shè)備安裝和調(diào)試時的檢漏
    7.2.4設(shè)備運轉(zhuǎn)階段的檢漏
    7.3低溫容器的檢漏
    7.3.1允許漏率
    7.3.2檢漏方法
    7.3.3低溫容器檢漏的特殊問題
    7.4液體火箭燃料箱體的檢漏
    7.4.1底的檢漏
    7.4.2共底的檢漏
    7.4.3箱體焊縫檢漏
    7.4.4焊點檢漏
    7.5星載儀器的檢漏
    7.5.1氦質(zhì)譜檢漏法
    7.5.2保壓法
   第八章 空間材料的真空效應
    8.1概述
    8.2材料的出氣指標篩選
    8.2.1篩選標準的制定原則
    8.2.2出氣篩選的標準
    8.2.3材料取舍的判據(jù)及其含意
    8.2.4材料出氣的范圍
    8.2.5中國的微可凝揮發(fā)物裝置
    8.2.6部分國產(chǎn)空間材料的出氣數(shù)據(jù)
    8.2.7材料出氣數(shù)據(jù)的使用
    8.2.8出氣篩選標準的不足
    8.3空間材料的質(zhì)量損失
    8.3.1測試方法
    8.3.2部分國產(chǎn)空間材料質(zhì)損隨時間的變化
    8.3.3材料質(zhì)量損失隨時間變化的規(guī)律
    8.3.4材料質(zhì)損規(guī)律研究的新進展
    8.4航天器敏感表面的污染
    8.4.1污染的后果
    8.4.2分子污染的來源
    8.4.3分子污染的過程
    8.4.4分子污染的檢測
    8.4.5分子污染的防護
    8.4.6爬移污染的機理
    8.4.7防爬移方法
    8.4.8羽流污染
    8.5空間材料的蒸氣壓
    8.5.1飽和蒸氣壓
    8.5.2潤滑油的分類
    8.5.3國內(nèi)油脂飽和蒸氣壓測定方法
    8.5.4國產(chǎn)油脂飽和蒸氣壓
    8.6材料的綜合環(huán)模試驗
    8.6.1材料的熱真空試驗
    8.6.2電子輻照下材料質(zhì)量損失
    8.6.3真空－紫外輻照
    8.7石英晶體微量天平
    8.7.1原理與特性
    8.7.2檢測公式辨析
   第九章 空間科學中的表面物理問題
    9.1概述
    9.1.1表面物理研究的基本內(nèi)容
    9.1.2表面物理與真空技術(shù)
    9.1.3空間科學中的表面物理問題
    9.2氣體環(huán)境與表面的相互作用
    9.2.1氣體分子在表面上的吸附
    9.2.2吸附的動態(tài)變化及平衡
    9.2.3混合氣體的共吸附
    9.3空間中電子與表面相互作用
    9.3.1電子散射自由程
    9.3.2電離損失
    9.3.3等離子體激發(fā)與聲子激發(fā)和韌致輻射
    9.3.4二次電子發(fā)射
    9.4低能電子輻照損傷
    9.4.1電子激發(fā)脫附（ESD）與電子激發(fā)吸附（ESA）
    9.4.2電子轟擊引起的分解效應
    9.4.3電子引起表面二次電子發(fā)射系數(shù)變化
    9.4.4電子引起的表面荷電效應
    9.5荷能離子和中性粒子與表面相互作用
    9.5.1基本過程的概述
    9.5.2背散射
    9.5.3俘獲、再釋與注入
    9.5.4濺射
    9.5.5離子誘導的電子發(fā)射和光發(fā)射
    9.5.6原子氧與航天器表面的相互作用
    9.5.7輻射損傷
    9.6光與表面的相互作用
    9.6.1X光的吸收
    9.6.2光電子發(fā)射
    9.6.3光致脫附
    9.7表面分析及其在航天科學中的應用
    9.7.1工業(yè)中常用的表面分析儀器和方法
    9.7.2有關(guān)的一些技術(shù)問題
    9.7.3表面分析在航天科學與工業(yè)中的應用
   第十章 空間真空中的摩擦
    10.1真空環(huán)境中的固體摩擦現(xiàn)象
    10.1.1大氣環(huán)境中固體表面狀況
    10.1.2降低大氣壓力對摩擦的影響
    10.1.3超高真空對清潔金屬摩擦性能的影響
    10.2真空環(huán)境中的流體潤滑
    10.2.1彈性流體動力潤滑理論
    10.2.2EHDI應用于滾動軸承
    10.2.3在真空與空間中流體潤滑的應用
    10.3真空環(huán)境下的固體潤滑
    10.3.1固體潤滑法
    10.3.2固體潤滑劑的分類
    10.3.3常用的固體潤滑材料
    10.3.4固體潤滑的應用
    10.4空間機械的地面性能評價
    10.4.1地面試驗項目
    10.4.2中國空間機械地面評價試驗
   第十一章 空間應用真空新工藝
    11.1離子束刻蝕超精加工
    11.1.1離子束刻蝕原理
    11.1.2離子束刻蝕機
    11.1.3離子束刻蝕的工藝特征
    11.1.4離子束刻蝕的應用
    11.2真空鍍膜工藝
    11.2.1真空鍍膜原理
    11.2.2真空鍍膜機
    11.2.3薄膜的組織結(jié)構(gòu)
    11.2.4硬質(zhì)耐磨膜和固體潤滑膜的工藝特征
    11.3局部真空電子束焊接
    11.3.1局部真空電子束焊接原理
    11.3.2直線型局部真空電子束焊機
    11.3.3焊接工藝