薄膜材料制備原理、技術及應用（第2版）

1 薄膜制備的真空技術基礎
1.1 氣體分子運動論的基本概念
1.2 氣體的流動狀態(tài)和真空抽速
1.3 真空泵簡介
1.4 真空的測量
參考文獻
2 薄膜的物理氣相沉積（Ⅰ）——蒸發(fā)法
2.1 物質的熱蒸發(fā)
2.2 薄膜沉積的厚度均勻性和純度
2.3 真空蒸發(fā)裝置
參考文獻
3 薄膜的物理氣相沉積（Ⅱ）——濺射法及其他PVD方法
3.1 氣體放電現(xiàn)象與等離子體
3.2 物質的濺射現(xiàn)象
3.3 濺射沉積裝置
3.4 其他物理氣相沉積方法
參考文獻
4 薄膜的化學氣相沉積
4.1 化學氣相沉積反應的類型
4.2 化學氣相沉積過程的熱力學
4.3 化學氣相沉積過程的動力學
4.4 CVD薄膜沉積過程的數值模擬
4.5 化學氣相沉積裝置
4.6 等離子體輔助化學氣相沉積技術
參考文獻
5 薄膜的生長過程和薄膜結構
5.1 薄膜生長過程概述
5.2 新相的自發(fā)形核理論
5.3 薄膜的非自發(fā)形核理論
5.4 連續(xù)薄膜的形成
5.5 薄膜生長過程與薄膜結構
5.6 非晶薄膜
5.7 薄膜結構
5.8 薄膜的外延生長
5.9 薄膜中的應力和薄膜的附著力
參考文獻
6 薄膜材料的表征方法
7 薄膜材料及其應用