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內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書(shū)系統(tǒng)地介紹了壓電學(xué)的基本原理和壓電薄膜的制備方法。形成過(guò)程、結(jié)構(gòu)特征及其應(yīng)用。全書(shū)共分七章。前四章為壓電材料與壓電學(xué)基礎(chǔ)、壓電薄膜的制備方法、薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷、薄膜結(jié)構(gòu)和組成的分析測(cè)試方法。第五章和第六章為作者在AlN壓電薄膜方面的研究成果：AlN薄膜的擇優(yōu)取向結(jié)構(gòu)，AlN薄膜的表面結(jié)構(gòu)和組成。第七章為壓電薄膜的應(yīng)用。本書(shū)體系完整。內(nèi)容豐富，基礎(chǔ)理論論述簡(jiǎn)潔。本書(shū)可供從節(jié)壓電薄膜材料研究的科技人員以及從事表聲波和體波器件研制的工程技術(shù)人員參閱，也可供高等院校相關(guān)專(zhuān)業(yè)的師生和研究生參考。

作者簡(jiǎn)介

暫缺《壓電薄膜的制備結(jié)構(gòu)與應(yīng)用》作者簡(jiǎn)介

圖書(shū)目錄

序
前言
第一章壓電材料與壓電學(xué)基礎(chǔ)
1.1 壓電材料的發(fā)展
1.2 晶體的點(diǎn)陣結(jié)構(gòu)和對(duì)稱(chēng)性
1.3 晶體的壓電性質(zhì)
1.4 壓電薄膜的電學(xué)性質(zhì)
參考文獻(xiàn)
第二章壓電薄膜的制備方法
2.1 真空基礎(chǔ)基礎(chǔ)
2.2 真空蒸發(fā)鍍膜
2.3 濺射鍍膜
2.4 化學(xué)氣相沉積
2.5 磁控濺射制備AIN薄膜
參考文獻(xiàn)
第三章薄膜的形成、結(jié)構(gòu)與缺陷研究
3.1 薄膜的形成過(guò)程
3.2 薄膜的機(jī)構(gòu)
3.3 薄膜的缺陷
參考文獻(xiàn)
第四章薄膜材料的表征方法
4.1 薄膜厚度的測(cè)量
4.2 薄膜結(jié)構(gòu)的表征
4.3 薄膜成分的分析
參考文獻(xiàn)
第五章 AIN薄膜擇優(yōu)取向的研究
5.1 濺射氣壓對(duì)薄膜擇優(yōu)取向的影響
5.2 靶基距對(duì)薄膜則有取向的影響
5.3 靶功率對(duì)薄膜則有取向的影響
5.4 氮?dú)鉂舛葘?duì)薄膜則有取向的影響
5.5 基片種類(lèi)對(duì)薄膜則有取向的影響
5.6 薄膜則有取向機(jī)理的探討
5.7 薄膜則有取向程度與實(shí)驗(yàn)參數(shù)之間的函數(shù)關(guān)系
5.8 薄膜的組織
參考文獻(xiàn)
第六章 AIN薄膜的表面結(jié)構(gòu)和組成分析
6.1 AIN薄膜的表面粗糙度分析
6.2 AIN薄膜的組成分析
參考文獻(xiàn)
第七章壓電薄膜的反應(yīng)
7.1 聲表面波器件應(yīng)用
7.2 壓電薄膜題波模的應(yīng)用
參考文獻(xiàn)
附錄 230個(gè)晶體學(xué)空間群