專用集成電路設計基礎

第一章  概論
 1.1  集成電路的發(fā)展歷程  1
  1.1.1  半導體集成電路的出現(xiàn)與發(fā)展  1
  1.1.2  集成電路發(fā)展的特點  1
 1.2  專用集成電路設計要求  3
  1.2.1  關于“速度”  3
  1.2.2  關于“功耗”  4
  1.2.3  關于“價格”  5
 1.3  集成電路的分類  6
  1.3.1  按功能分類  6
  1.3.2  按結構形式和材料分類  6
  1.3.3  按有源器件及工藝類型分類  6
  1.3.4  按集成電路的規(guī)模分類  7
  1.3.5  按生產目的和實現(xiàn)方法分類  7
 1.4  集成電路設計方法  10
  1.4.1  設計方法學的重大變革  11
  1.4.2  ASIC設計步驟  12
  1.4.3  EDA設計工具的選擇  13
  1.4.4  ASIC設計特點和技巧  13
第二章  集成電路工藝基礎及版圖設計
 2.1  引言  15
 2.2  集成電路制造工藝簡介  16
  2.2.1  氧化工藝  16
  2.2.2  摻雜工藝  18
  2.2.3  光刻工藝  21
 2.3  版圖設計技術  23
  2.3.1  硅柵MOS工藝簡介  23
  2.3.2  P阱CMOS工藝簡介  24
  2.3.3  雙阱工藝及SOI CMOS工藝簡介  27
  2.3.4  版圖設計規(guī)則  28
 2.4  電參數(shù)設計規(guī)則  32
  2.4.1  電阻值的估算  32
  2.4.2  MOS電容  35
第三章  MOS集成電路器件基礎
 3.1  MOS場效應管(MOSFET)的結構及符號  40
  3.1.1  NMOS管的簡化結構  40
  3.1.2  N阱及PMOS  40
  3.1.3  MOS管符號  41
 3.2  MOS管的電流電壓特性  42
  3.2.1  MOS管的轉移特性  42
  3.2.2  MOS管的輸出特性  42
  3.2.3  MOS管的電流方程  43
  3.2.4  MOS管的輸出電阻  45
  3.2.5  MOS管的跨導gm  46
  3.2.6  體效應及背柵跨導gmb  47
  3.2.7  場效應管亞閾區(qū)特性  47
  3.2.8  溝道尺寸W、L對閾值電壓U TH和特征頻率f T的影響  47
 3.3  MOS電容  49
  3.3.1  用作單片電容器的MOS器件特性  49
  3.3.2  MOS管的極間電容和寄生電容  50
 3.4  MOS管的Spice模型參數(shù)  51
 3.5  MOS管小信號等效電路  53
  3.5.1  低頻小信號模型  53
  3.5.2  MOS管的高頻小信號等效電路  53
第四章  數(shù)字集成電路設計基礎
 4.1  MOS開關及CMOS傳輸門  55
  4.1.1  單管MOS開關  55
  4.1.2  CMOS傳輸門  57
 4.2  CMOS反相器  58
  4.2.1  反相器電路  58
  4.2.2  CMOS反相器功耗  59
  4.2.3  CMOS反相器的直流傳輸特性  61
  4.2.4  CMOS反相器的噪聲容限  63
  4.2.5  CMOS反相器的門延遲，級聯(lián)及互連線產生的延遲  64
 4.3  全互補CMOS集成門電路  70
  4.3.1  CMOS與非門設計  70
  4.3.2  CMOS或非門設計  72
  4.3.3  CMOS與或非門和或與非門設計  74
  4.3.4  CMOS三態(tài)門和鐘控CMOS邏輯電路  76
  4.3.5  CMOS異或門設計  76
  4.3.6  CMOS同或門設計  77
  4.3.7  CMOS數(shù)據(jù)選擇器  78
  4.3.8  布爾函數(shù)邏輯——傳輸門的又一應用  78
  4.3.9  CMOS全加器  79
 4.4  改進的CMOS邏輯電路  81
  4.4.1  偽NMOS邏輯(Pseudo NMOS Logic)電路  81
  4.4.2  動態(tài)CMOS邏輯電路(預充電CMOS電路)  83
  4.4.3  多米諾邏輯(Domino Logic)  86
  4.4.4  流水線邏輯和無競爭技術  88
 4.5  移位寄存器、鎖存器、觸發(fā)器、I/O單元  91
  4.5.1  移位寄存器  91
  4.5.2  鎖存器  91
  4.5.3  觸發(fā)器(Flip flops)  93
  4.5.4  通用I/O單元  95
第五章  數(shù)字集成電路系統(tǒng)設計
 5.1  二進制加法器(Adder)  97
  5.1.1  一位加法器——半加器(Half Adder)與全加器(Full Adder)  97
  5.1.2  n位并行加法器  98
  5.1.3  浮點數(shù)加法器(Floating Point Adder)  102
 5.2  二進制乘法器(Multiplier)  104
  5.2.1  二進制乘法運算  104
  5.2.2  數(shù)字乘法器的電路結構  105
 5.3  桶型移位器(Barrel Shifter)  110
 5.4  可編程邏輯器件  111
  5.4.1  可編程邏輯器件的基本構成  112
  5.4.2  幾種典型的可編程邏輯器件  116
 5.5  半導體存儲器  122
  5.5.1  隨機存取存儲器RAM  123
  5.5.2  只讀存儲器ROM  125
第六章  模擬集成電路設計基礎
 6.1  引言  127
 6.2  MOS電流源及CMOS運算放大器  128
  6.2.1  MOS電流源  128
  6.2.2  CMOS運算放大器  130
 6.3  D/A轉換器  141
  6.3.1  D/A轉換器原理及技術指標  141
  6.3.2  D/A轉換器電路舉例  143
 6.4  A/D轉換器  153
  6.4.1  A/D轉換器的原理、指標及特性  153
  6.4.2  A/D轉換器的分類及應用  154
  6.4.3  A/D轉換器電路舉例  155
第七章  硬件描述語言簡介
 7.1  VHDL語言簡介  163
  7.1.1  VHDL概述  163
  7.1.2  VHDL語言程序的基本結構  166
  7.1.3  VHDL語言的數(shù)據(jù)類型及運算操作符  171
  7.1.4  VHDL語言構造體的描述方式  176
  7.1.5  VHDL語言的主要描述語句  178
  7.1.6  基本邏輯電路設計與邏輯綜合  185
 7.2  Verilog HDL語言簡介  189
  7.2.1  Verilog HDL概述  189
  7.2.2  Verilog HDL中的模塊及描述方式  191
  7.2.3  Verilog HDL的數(shù)據(jù)類型及運算符  193
  7.2.4  Verilog HDL的主要描述語句  198
  7.2.5  基本邏輯電路設計  213
  7.2.6  Verilog HDL仿真與綜合  214
第八章  常用EDA軟件介紹
 8.1  eProduct Designer軟件介紹  216
  8.1.1  子系統(tǒng)設計  216
  8.1.2  從原理圖生成符號  231
  8.1.3  設計仿真  234
  8.1.4  VHDL仿真  247
  8.1.5  EDIF Interface介紹  254
 8.2  Tanner使用指南  256
  8.2.1  概述  256
  8.2.2  原理圖輸入工具S Edit  257
  8.2.3  版圖設計工具L Edit  269
 8.3  Cadence EDA軟件的使用  282
  8.3.1  啟動Cadence EDA軟件  283
  8.3.2  建立設計庫  284
  8.3.3  使用Composer軟件包繪制電路原理圖  285
  8.3.4  生成電路符號圖(Symbol)  288
  8.3.5  使用Hspice軟件包對設計進行前仿真——Pre Simulation  290
  8.3.6  使用Virtuoso軟件包進行全定制版圖設計  293
  8.3.7  設計規(guī)則檢查DRC(Design Rule Check)  296
  8.3.8  版圖參數(shù)的提取及版圖與原理圖的對比(LVS)  297
  8.3.9  布局/布線后仿真(Post Layout Simulation)  300
  8.3.10  生成CIF格式的版圖數(shù)據(jù)并提交生產廠家(MOSIS)  300