納米CMOS器件

序
前言
第一章 緒論
第二章 縮小到納米尺寸的CMOS器件面臨的挑戰(zhàn)
2·1器件尺寸縮小對工藝技術的挑戰(zhàn)
2·2柵氧化層減薄的限制
2·3量子效應的影響
2·4遷移率退化和速度飽和
2·5雜質(zhì)隨機分布的影響
2·6閾值電壓減小的限制
2·7源、漏區(qū)串聯(lián)電阻的影響
參考文獻
第三章 納米CMOS器件的圖形制備技術
3·1光刻工藝技術的進展
3·2分辨率增強技術
3·3下一代光刻技術的研究進展
3·4一種實用的超細柵線條制備技術
3·5超細線條刻蝕技術
參考文獻
第四章 納米CMOS器件中的柵工程
4·1CMOS器件中的MIS柵結構
4·2氮氧硅柵介質(zhì)
4·3高介電常數(shù)柵介質(zhì)
4·4納米CMOS技術中的新型柵電極材料
參考文獻
第五章 納米CMOS器件的溝道工程和超淺結技術
5·1溝道工程要解決的問題
5·2縱向溝道工程
5·3納米CMOS器件中的橫向溝道工程
5·4納米CMOS中的超淺結和相關離子摻雜新技術的發(fā)展
參考文獻
第六章 新型納米CMOS器件
6·1新型襯底結構器件
6·2新型柵結構器件
6·3新型溝道結構器件
6·4新型源漏結構器件
6·5新型工作機制器件
參考文獻
主要符號表