薄膜物理與技術(shù)

第一章 真空技術(shù)基礎(chǔ)
§1-1 真空的基本知識
§1-2 稀薄氣體的基本性質(zhì)
§1-3 真空的獲得
§1-4 真空的測量
第二章 真空蒸發(fā)鍍膜法
§2-1 真空蒸發(fā)原理
§2-2 蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性及膜厚分布
§2-3 蒸發(fā)源的類型
§2-4 合金及化合物的蒸發(fā)
§2-5 膜厚和淀積速率的測量與監(jiān)控
第三章 濺射鍍膜
§3-1 濺射鍍膜的特點
§3-2 濺射的基本原理
§3-3 濺射鍍膜類型
§3-4 濺射鍍膜的厚度均勻性
第四章 離子鍍膜
§4-1 離子鍍原理
§4-2 離子鍍的特點
§4-3 離子轟擊的作用
§4-4 離子鍍的類型
第五章 化學(xué)氣相沉積
§5-1 化學(xué)氣相沉積的基本原理
§5-2 化學(xué)氣相沉積的特點
§5-3 CVD方法簡介
§5-4 低壓化學(xué)氣相沉積
§5-5 等離子體化學(xué)氣相沉積
§5-6 其他化學(xué)氣相沉積法
第六章 溶液鍍膜法
§6-1 化學(xué)反應(yīng)沉積
§6-2 陽極氧化法
§6-3 電鍍法
§6-4 LB膜的制備
第七章 薄膜的形成
§7-1 凝結(jié)過程
§7-2 核形成與生長
§7-3 薄膜形成過程與生長模式
§7-4 濺射薄膜的形成過程
§7-5 薄膜的外延生長
§7-6 薄膜形成過程的計算機(jī)模擬
第八章 薄膜的結(jié)構(gòu)與缺陷
§8-1 薄膜的結(jié)構(gòu)
§8-2 薄膜的缺陷
§8-3 薄膜結(jié)構(gòu)與組分的分析方法
第九章 薄膜的性質(zhì)
§9-1 薄膜的力學(xué)性質(zhì)
§9-2 金屬薄膜的電學(xué)性質(zhì)
§9-3 介質(zhì)薄膜的電學(xué)性質(zhì)
§9-4 半導(dǎo)體薄膜的性質(zhì)
§9-5 薄膜的其他性質(zhì)
參考文獻(xiàn)