工業(yè)中的核測量

     目錄
   前言
   1 基本概念
    1.1 同位素和放射性
    1.2 放射性的基本定律和單位
    1.3 輻射源
    1.3.1 密封輻射源的特性
    1.3.2 密封性的檢驗和判據
    1.3.3 輻射源的使用和商品化
    1.4 輻射與物質的相互作用
    1.4.1 α輻射
    1.4.2 β輻射
    1.4.3 Υ輻射
    1.4.4 中子輻射
   2 輻射探測系統(tǒng)
    2.1 電離室
    2.2 正比計數管
    2.3 G－M計數管
    2.4 半導體探測器
    2.5 閃爍計數器
    2.5.1 閃爍體
    2.5.2 光電倍增管
    2.5.3 工作穩(wěn)定性
    2.5.4 閃爍能譜測量
    2.5.5 帶半導體光敏器件的閃爍探測器
    2.6 工業(yè)核儀表中的探測器
   3 測量方法和測量儀表
    3.1 同位素測量方法
    3.1.1 直接測量
    3.1.2 差分測量
    3.1.3 補償測量
    3.1.4 自動校準
    3.2 統(tǒng)計測量誤差
    3.3 放射性同位素測量儀表
    3.3.1 用于信號處理的電子學系統(tǒng)
    3.3.2 通用測量系統(tǒng)
    3.3.3 智能測量儀表
    3.3.4 多道測量裝置
    3.4 控制系統(tǒng)
   4 極限值指示
    4.1 放射性同位素的極限值指示（Υ繼電器）
    4.2 適用于解決極限值指示問題的幾種放射性同位素裝置
    4.3 料位指示器Υ繼電器的應用
    4.4 料位指示器在自動控制中的應用
   5 料位測量
    5.1 吸收式料位測量儀表
    5.2 跟蹤式料位測量儀表
    5.3 Υ定位剖面測量
    5.4 利用放射性同位素探測進行料位控制
    5.5 料位測量和工藝監(jiān)督
   6 厚度測量
    6.1 利用放射性同位素進行厚度測量
    6.2 放射性同位素厚度測量裝置
    6.3 厚度測量裝置的應用
    6.4 厚度（表面質量）控制
    6.5 利用厚度測量儀表進行工藝監(jiān)督
   7 鍍層厚度測量
    7.1 基于β輻射反射技術的鍍層厚度測量
    7.2 基于β輻射反射技術的鍍層厚度測量裝置
    7.3 利用β輻射反射原理進行鍍層厚度測量的應用
    7.3.1 錫鍍層厚度的測定
    7.3.2 鋅鍍層厚度的測量
    7.3.3 銀鍍層厚度的測量
    7.3.4 金鍍層厚度的測量
    7.3.5 雙鍍層厚度的測量
    7.3.6 塑料和涂料涂層厚度的測量
    7.3.7 其它涂層厚度的測量
    7.3.8 鏜孔電鍍層厚度的測量
    7.4 利用X射線熒光測量層厚
   8 密度測量
    8.1 利用Υ輻射吸收法進行密度測量
    8.2 測量位置的設計
    8.2.1 測量倉的充滿度
    8.2.2 氣泡
    8.2.3 測量管中的沉積
    8.2.4 測量管的磨損
    8.2.5 吸收長度的選定
    8.2.6 校準可能性的保證
    8.3 密度測量儀表
    8.4 放射性同位素密度計的應用
   9 水分含量測量
    9.1 利用中子慢化法測量水分含量
    9.2 濕度計的工藝應用
    9.2.1 水分含量不變的混合料的生產
    9.2.2 供給特定量水分
    9.2.3 帶質量修正的加料
   10 利用核儀表測定材料成分
    10.1 以輻射吸收原理工作的儀表
    10.1.1 β輻射吸收的應用
    10.1.2 Υ輻射吸收的應用
    10.2 利用輻射反射（散射）進行測量
    10.2.1 β輻射反射的應用
    10.2.2 Υ輻射反射的應用
    10.3 次級輻射的測量
    10.3.1 由β輻射產生的次級輻射的測量
    10.3.2 由Υ輻射產生的次級輻射的測量
    10.3.3 熒光輻射的測量
    10.4 中子輻射的應用
    10.4.1 活化分析
    10.4.2 自發(fā)核反應的應用
    10.4.3 中子吸收和散射的應用
    10.5 Υ輻射的選擇相互作用
    10.6 根據天然放射性測定材料成分
   11 核方法的其它工業(yè)應用
    11.1 輸送帶上的連續(xù)測量
    11.2 包裹內裝物品的檢查
    11.3 利用Υ輻射吸收探測煙
    11.4 靜電荷的消除
    11.5 可攜式核儀器
    11.5.1 土壤密度和水分含量的測量
    11.5.2 利用反射技術進行壁厚測量
    11.5.3 料位測定計
   12 工業(yè)用放射性同位素測量裝置的建立
    12.1 裝置的適當選定和數據獲取
    12.2 規(guī)劃應用
    12.3 現(xiàn)場操作
    12.4 輻射防護
    12.4.1基本原理
    12.4.2輻射源容器
   參考文獻
   附錄