等離子體電子工程學(xué)

1 等離子體電子學(xué)的學(xué)習(xí)方法
1.1等離子體概述
1.2等離子體的各種性質(zhì)
1.3等離子體的應(yīng)用
1.4本書的構(gòu)成
練習(xí)題
2 等離子體中的微觀運(yùn)動
2.1單個(gè)粒子的運(yùn)動
2.2粒子間的碰撞
2.3彈性碰撞中的能量損失
2.4原子的激發(fā)與電離
2.5分子的激發(fā)與離解、電離
練習(xí)題
3 等離子體的宏觀性質(zhì)
3.1分布函數(shù)與平均量
3.2等離子體基本方程
3.3等離子體的電中性
3.4粒子流動與密度分布
3.5等離子體鞘層
3.6能量平衡與粒子數(shù)平衡
練習(xí)題
4 氣體放電與等離子體的形成
4.1氣體的絕緣擊穿――湯生的實(shí)驗(yàn)和理論
4.2放電起始電壓――帕邢定律
4.3氣體放電中的等離子體狀態(tài)
4.4湯生理論的局限性
練習(xí)題
5 等離子體的生成方法Ⅰ――直流放電
5.1各種放電方法與放電模式
5.2輝光放電與低溫等離子體
5.3電弧放電與熱等離子體
5.4電暈放電與高氣壓低溫等離子體
5.5磁控管放電
練習(xí)題
6 等離子體的生成方法Ⅱ――高頻放電、微波放電
6.1等離子體生成與天線耦合
6.2平行板加RF電壓――電容耦合等離子體
6.3線圈通RF電流――感應(yīng)耦合等離子體
6.4等離子體中的波
6.5強(qiáng)電波照射――表面波等離子體
6.6使用磁場中的波――ECR等離子體和螺旋波等離子體
練習(xí)題
7 等離子體在電子、環(huán)境工程中的應(yīng)用
7.1LSI制造工藝中的等離子體刻蝕法
7.2非晶硅薄膜的等離子體CVD制備法
7.3等離子體顯示器件的工作原理
7.4利用等離子體的環(huán)境改善技術(shù)
練習(xí)題
練習(xí)題解答
參考文獻(xiàn)
附錄
篇外話
“等離子體”名稱的由來
原子的內(nèi)部狀態(tài)和光譜標(biāo)記
朗繆爾探針
流注的形成
表面磁場對等離子體的約束作用
朗道衰減與回旋衰減
用強(qiáng)光生成等離子體