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內(nèi)容簡(jiǎn)介

　　本書為《21世紀(jì)高等院校法學(xué)教材》的一種。本書以當(dāng)代科技發(fā)展和知識(shí)經(jīng)濟(jì)的興起為背景，對(duì)現(xiàn)代知識(shí)產(chǎn)權(quán)的一般概念和理論進(jìn)行了介紹，然后分別就著作權(quán)與著作權(quán)法律制度、專利權(quán)與專利法律制度、商標(biāo)權(quán)與商標(biāo)法律制度作了論述，并且專門研究了商業(yè)秘密權(quán)、植物新品種權(quán)、集成電路布圖設(shè)計(jì)權(quán)、商號(hào)權(quán)、原產(chǎn)地名稱權(quán)、商業(yè)化形象權(quán)等新的知識(shí)產(chǎn)權(quán)問題；而相關(guān)的知識(shí)產(chǎn)權(quán)國(guó)際公約則在各知識(shí)產(chǎn)權(quán)專題中一起介紹。本書以截止到2001年12月的最新法律文本為依據(jù)，吸收了國(guó)內(nèi)的最新研究成果，結(jié)合了作者自己的教學(xué)與科研實(shí)踐，按教學(xué)改革的要求編寫而成。